中国激光, 2015, 42 (3): 0303012, 网络出版: 2015-02-03
光波导端面的准分子激光刻蚀技术研究 
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Research on Excimer Laser Etching Technology for Achieving Optical Waveguide End Face
基本信息
| DOI: | 10.3788/cjl201542.0303012 |
| 中图分类号: | TN252 |
| 栏目: | 激光制造 |
| 项目基金: | 上海市科学技术委员会重点科技攻关项目(13511500500)、上海市教育委员会科研创新项目(14ZZ093) |
| 收稿日期: | 2014-10-14 |
| 修改稿日期: | 2014-11-18 |
| 网络出版日期: | 2015-02-03 |
| 通讯作者: | 贾娜娜 (18817872809@163.com) |
| 备注: | -- |
贾娜娜, 邓传鲁, 庞拂飞, 顾鑫, 王廷云. 光波导端面的准分子激光刻蚀技术研究[J]. 中国激光, 2015, 42(3): 0303012. Jia Nana, Deng Chuanlu, Pang Fufei, Gu Xin, Wang Tingyun. Research on Excimer Laser Etching Technology for Achieving Optical Waveguide End Face[J]. Chinese Journal of Lasers, 2015, 42(3): 0303012.
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