光子学报, 2018, 47 (9): 0916005, 网络出版: 2018-09-15
磁控溅射结合脉冲激光制备钛掺杂硅薄膜的研究
Study of Titanium-doped Silicon Films Prepared by Magnetron Sputtering and Nanosecond Pulsed Laser
基本信息
DOI: | 10.3788/gzxb20184709.0916005 |
中图分类号: | O472+.3 |
栏目: | |
项目基金: | -- |
收稿日期: | 2018-04-02 |
修改稿日期: | 2018-06-08 |
网络出版日期: | 2018-09-15 |
通讯作者: | 王凯 (ue2015work@foxmail.com) |
备注: | -- |
王凯, 李晓红, 张延彬, 温才, 刘德雄. 磁控溅射结合脉冲激光制备钛掺杂硅薄膜的研究[J]. 光子学报, 2018, 47(9): 0916005. WANG Kai, LI Xiao-hong, ZHANG Yan-bing, WEN Cai, LIU De-xiong. Study of Titanium-doped Silicon Films Prepared by Magnetron Sputtering and Nanosecond Pulsed Laser[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2018, 47(9): 0916005.