磁控溅射结合脉冲激光制备钛掺杂硅薄膜的研究

王凯; 李晓红; 张延彬; 温才; 刘德雄

doi:doi:10.3788/gzxb20184709.0916005

光子学报, 2018, 47 (9): 0916005, 网络出版: 2018-09-15

磁控溅射结合脉冲激光制备钛掺杂硅薄膜的研究

Study of Titanium-doped Silicon Films Prepared by Magnetron Sputtering and Nanosecond Pulsed Laser

王凯 ^*李晓红张延彬温才刘德雄

作者单位

西南科技大学理学院极端条件物质特性联合实验室, 四川绵阳 621000

图 & 表

王凯, 李晓红, 张延彬, 温才, 刘德雄. 磁控溅射结合脉冲激光制备钛掺杂硅薄膜的研究[J]. 光子学报, 2018, 47(9): 0916005. WANG Kai, LI Xiao-hong, ZHANG Yan-bing, WEN Cai, LIU De-xiong. Study of Titanium-doped Silicon Films Prepared by Magnetron Sputtering and Nanosecond Pulsed Laser[J]. ACTA PHOTONICA SINICA, 2018, 47(9): 0916005.