发光学报, 2016, 37 (1): 50, 网络出版: 2016-03-22   

溶胶凝胶法制备以Al2O3为界面修饰层的铪铟锌氧薄膜晶体管

Solution Processed HfInZnO Thin Film Transistors with HfSiOx Dielectrics Modified by Al2O3 Films
作者单位
1 上海大学 材料科学与工程学院, 上海200072
2 上海大学 新型显示技术及应用集成教育部重点实验室, 上海200072
基本信息
DOI: 10.3788/fgxb20163701.0050
中图分类号: TN321.5
栏目: 器件制备及器件物理
项目基金: 国家高技术研究发展计划(863)(2015AA033406)、 广东省省级科技计划(2015B090915001)、 上海科学技术委员会项目(13520500200)资助
收稿日期: 2015-09-02
修改稿日期: 2015-11-25
网络出版日期: 2016-03-22
通讯作者: 高娅娜 (gaoyana@shu.edu.cn)
备注: --

高娅娜, 许云龙, 张建华, 李喜峰. 溶胶凝胶法制备以Al2O3为界面修饰层的铪铟锌氧薄膜晶体管[J]. 发光学报, 2016, 37(1): 50. GAO Ya-na, XU Yun-long, ZHANG Jian-hua, LI Xi-feng. Solution Processed HfInZnO Thin Film Transistors with HfSiOx Dielectrics Modified by Al2O3 Films[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2016, 37(1): 50.

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