发光学报, 2016, 37 (1): 50, 网络出版: 2016-03-22   

溶胶凝胶法制备以Al2O3为界面修饰层的铪铟锌氧薄膜晶体管

Solution Processed HfInZnO Thin Film Transistors with HfSiOx Dielectrics Modified by Al2O3 Films
作者单位
1 上海大学 材料科学与工程学院, 上海200072
2 上海大学 新型显示技术及应用集成教育部重点实验室, 上海200072
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