Cu/Ti超晶格薄膜的强紫外反射性能研究

罗佳慧; 李燕; 杨成韬

光学学报, 2001, 21 (6): 673, 网络出版: 2006-08-10

Cu/Ti超晶格薄膜的强紫外反射性能研究

Strong UV Reflecting Characteristics of Cu/Ti Superlattic Films

论文大纲

罗佳慧李燕杨成韬

作者单位

电子科技大学信息材料工程学院, 成都 610054

磁控溅射 Cu/Ti超晶格膜紫外光反射率 magnetron sputtering Cu/Ti superlattice film UV-light reflectivity

摘要

采用直流磁控溅射方法制备了一维二组元Cu/Ti周期超晶格金属薄膜，研究了基片温度、膜周期数、基片取向与紫外反射的关系。当基片加热温度为470℃时，在硅（100）晶面上生长的30层Cu/Ti膜，层间膜厚控制在1:3、膜总厚度控制为300nm时，所制备的超晶格薄膜在5°入射角下对200nm的紫外光,其反射率可高达90%。

Abstract

One-dimensional and two-component Cu/Ti superlattice films have been deposited by DC magnetron sputtering. The influences of substrate temperature, periodic number and substrate structure on UV-reflectivity of Cu/Ti superlattic films are studied. The films fabricated at 470 ℃ substrate temperature, on Si(100) substrate and with 30 pair layers have a high UV-reflectivity of about 90% at 200 nm and 5° from normal incidence.

参考文献

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罗佳慧, 李燕, 杨成韬. Cu/Ti超晶格薄膜的强紫外反射性能研究[J]. 光学学报, 2001, 21(6): 673. 罗佳慧, 李燕, 杨成韬. Strong UV Reflecting Characteristics of Cu/Ti Superlattic Films[J]. Acta Optica Sinica, 2001, 21(6): 673.

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