电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室, 四川 成都 611731
该文采用射频反应磁控溅射方法在蓝宝石(0001)基底上沉积了不同氮氩流量比下的ErAlN薄膜, 并基于ErAlN薄膜制备了声表面波(SAW)滤波器。结果表明, 随着氮氩流量比的增加, 薄膜结晶质量和c轴取向先变好再变差, 表面粗糙度先减小后增加, 当V(N2)∶V(Ar)=12∶17时, ErAlN薄膜具有最好的结晶质量和最小的表面粗糙度。基于ErAlN薄膜制备的SAW滤波器在273~288 MHz均有谐振效应, 当V(N2)∶V(Ar)=12∶17时, SAW滤波器具有最小的插入损耗和最大的传输系数。
磁控溅射 氮氩比 Er掺杂AlN薄膜 c轴择优取向 SAW滤波器 magnetron sputtering N2/Ar ratio Er-doped AlN film c-axis preferred orientation SAW filter
电子科技大学光电记录技术中心,四川成都610054
采用高温和湿热交变加速应力条件对磁光盘可靠性寿命进行研究.通过对磁光盘在加速应力条件下的动态性能分析,提出了以威布尔分布来处理磁光盘失效的理论模型,并得到了较好的拟合,对磁光盘的可靠性寿命进行了评估,得到了磁光盘的可靠性寿命以及威布尔寿命分布函数.
磁光盘 可靠性 威布尔分布 寿命 加速应力 MO disk reliability Weibull distribution lifetime accelerating stress
电子科技大学信息材料工程学院, 成都 610054
采用直流磁控溅射方法制备了一维二组元Cu/Ti周期超晶格金属薄膜，研究了基片温度、膜周期数、基片取向与紫外反射的关系。当基片加热温度为470℃时，在硅（100）晶面上生长的30层Cu/Ti膜，层间膜厚控制在1:3、膜总厚度控制为300nm时，所制备的超晶格薄膜在5°入射角下对200nm的紫外光,其反射率可高达90%。
磁控溅射 Cu/Ti超晶格膜 紫外光 反射率
电子科技大学光电记录技术中心,四川成都 610054
本文对单层结构和多层结构磁光型记录介质的疲劳特性进行研究,并对记录介质化学稳定性、记录介质循环擦写后记录磁畴物理特性及磁光记录动态特性载噪比和误码率进行分析,最后对磁光型记录介质的疲劳特性和信息记录可靠性进行评价.
磁光介质 疲劳 可靠性 磁畴 magneto optical media fatigue reliability magnetic domain
