作者单位
摘要
电子科技大学信息材料工程学院, 成都 610054
采用直流磁控溅射方法制备了一维二组元Cu/Ti周期超晶格金属薄膜,研究了基片温度、膜周期数、基片取向与紫外反射的关系。当基片加热温度为470℃时,在硅(100)晶面上生长的30层Cu/Ti膜,层间膜厚控制在1:3、膜总厚度控制为300nm时,所制备的超晶格薄膜在5°入射角下对200nm的紫外光,其反射率可高达90%。
磁控溅射 Cu/Ti超晶格膜 紫外光 反射率 
光学学报
2001, 21(6): 673

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