作者单位
摘要
中国科学院上海光学精密机械研究所. 上海 201800
以TbFeCo作为蓝光磁光盘的记录介质,需要对传统磁光盘热、光学结构进行改进以提高载噪比。利用光学特征导纳矩阵法对改进结构的磁光盘膜层进行了优化设计,得到了较好的匹配结果;并通过热学计算得到了记录膜体温度分布,从理论上证明了新结构的优越性。
信息光学 蓝光磁光盘 热控制层 品质因子 温度分布 
光学学报
2003, 23(9): 1090
作者单位
摘要
电子科技大学光电记录技术中心,四川成都610054
采用高温和湿热交变加速应力条件对磁光盘可靠性寿命进行研究.通过对磁光盘在加速应力条件下的动态性能分析,提出了以威布尔分布来处理磁光盘失效的理论模型,并得到了较好的拟合,对磁光盘的可靠性寿命进行了评估,得到了磁光盘的可靠性寿命以及威布尔寿命分布函数.
磁光盘 可靠性 威布尔分布 寿命 加速应力 MO disk reliability Weibull distribution lifetime accelerating stress 
应用光学
2002, 23(3): 14
作者单位
摘要
华中理工大学电子科学与技术系, 武汉 430074
研究了除法式磁光信号检测的原理和方法,分析表明,该检测方式不受激光功率的波动和盘片反射率变化的影响,提高了数据读出的准确性。实验结果显示除法式检测方式比差动式磁光信号检测更适合静态实验的要求。
磁光检测 磁光盘 差动式检测 除法式检测 
中国激光
2000, 27(8): 737
作者单位
摘要
中国科学院上海冶金研究所, 上海 200050
以激光照射下TbFeCo四层结构为例, 基于麦克斯韦(Maxwell)方程和坡印廷(Poyingting)矢量定理, 提出了一种磁光盘片膜层结构的热学优化新方法。 与常规的设计方法相比, 该方法不仅考虑了实际应用中的道跟踪需要, 而且运算更为简便, 因而对其它多层膜体系的优化设计有一定的参考价值。 实验上, 根据该设计用直流共溅射方法成功地制备了TbFeCo四层膜并进行了相关测试, 结果表明, 设计的样盘有良好的静、 动态读写性能。
磁光盘 微盘 直流共溅射 热学优化新方法 
光学学报
1999, 19(9): 1197
作者单位
摘要
华中理工大学光电子工程系,武汉 430074
讨论了用比较法测量磁光盘反射率问题,重点分析了由于系统光路的非理想性对测试结果的影响。建立了一套实用的测试系统,可对磁光盘反射率进行快速、准确的测量。
磁光盘 反射率 测试 
中国激光
1999, 26(11): 1027
作者单位
摘要
电子科技大学信息材料工程学院磁性工程系,成都 610054
基于对BiAlDyIG巨磁光材料的紫蓝光波段法拉第角频谱分析,采用新型热分解法工艺合成优质BiAlDyIG磁光薄膜,经快速循环晶化处理的结果表明,由于晶粒细化,其平均有效法拉第角比常规热处理后的样品大0.5°左右,且随循环数增加而增大。同时由于Al3+在四面体和八面体位的取代,导致居里温度下降(140~160 ℃),这些结果对提高磁光盘信噪比以及增大记录密度是极有意义的。
磁光 石榴石 磁光盘 记录密度 
中国激光
1998, 25(11): 976
作者单位
摘要
电子科技大学CAE中心,成都 610054
从磁光读出和热磁写入两者结合的角度提出一个新的优化目标函数.并用其完成了Bi代DyGaIG/金属反射层/玻璃多层结构磁光盘的优化设计。结果表明新优化目标函数更具实际意义。
磁光盘 Bi代石榴石 薄膜 优化设计 
中国激光
1996, 23(6): 565
作者单位
摘要
1 电子科技大学信息材料工程学院, 成都 610054
2 西南应用磁学研究所,绵阳 621000
快速循环晶化Al/BiGaDyIG双层膜的研究结果表明,由于晶粒细化及膜层间干涉增强效应,在0.1~1.3 μm膜厚范围.其平均有效法拉第角比单层膜增加了0.25°,且随循环次数增加而增大。同时,部分Al3+离子在退火期间扩散进石榴石的八面体和四面体位,导致居里温度下降(140~161 ℃)。这些结果对提高石榴石磁光盘信噪比以及增大记录密度是极有意义的。
磁光 双层膜 石榴石 磁光盘 记录密度 
中国激光
1996, 23(6): 560
作者单位
摘要
华中理工大学光电子工程系, 武汉 430074
分析了基片缺陷导致磁光盘产生原始误码的原因。首次建立了磁光盘读出光场与基片杂质特性的数学模型,利用数值分析方法研究了读出信号畸变、误码长度与杂质特性的关系。分析结果表明,一定大小的基片杂质是否产生误码,与杂质距记录层的距离、杂质距读写光斑的距离以及读出阈值电平等因素有关。
磁光盘 基片 杂质 误码 信号畸变 
光学学报
1995, 15(12): 1680
作者单位
摘要
电子科技大学信息材料工程学院, 成都 610054
研究用XRF基本参数法计算磁光盘的厚度和组成,铝层厚度用Al Kα线计算,两层氨化硅厚度都采用Si Kα线计算确定,磁光记录层采用Fe Kα,Co Kα和Tb Lα线来确定其厚度及组成。列出了膜厚方程,可由计算机很快解出,其结果与标准符合很好。
磁光盘 基本参数法 膜厚及组成 
中国激光
1995, 22(6): 442

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!