激光与光电子学进展, 2017, 54 (11): 113103, 网络出版: 2017-11-17
磁控溅射法制备氧化钨薄膜的膜层微观结构对电致变色性能的影响 下载: 887次
Effect of Film Micro-Structure of Tungsten Oxide Films Deposited by Magnetron Sputtering on Electrochromic Performance
基本信息
DOI: | 10.3788/lop54.113103 |
中图分类号: | O484 |
栏目: | 薄膜 |
项目基金: | 国家自然科学基金重点项目(51335002) |
收稿日期: | 2017-05-25 |
修改稿日期: | 2017-06-08 |
网络出版日期: | 2017-11-17 |
通讯作者: | 初文静 (wjchu@czamd.com) |
备注: | -- |
初文静, 张喜强, 施瑕玉, 郑友伟, 林俊良, 陈明亿, 林金锡, 林金汉, 袁宁一. 磁控溅射法制备氧化钨薄膜的膜层微观结构对电致变色性能的影响[J]. 激光与光电子学进展, 2017, 54(11): 113103. Chu Wenjing, Zhang Xiqiang, Shi Xiayu, Zheng Youwei, Lin Junliang, Chen Mingyi, Lin Jinxi, Lin Jinhan, Yuan Ningyi. Effect of Film Micro-Structure of Tungsten Oxide Films Deposited by Magnetron Sputtering on Electrochromic Performance[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2017, 54(11): 113103.