激光与光电子学进展, 2017, 54 (11): 113103, 网络出版: 2017-11-17  

磁控溅射法制备氧化钨薄膜的膜层微观结构对电致变色性能的影响 下载: 887次

Effect of Film Micro-Structure of Tungsten Oxide Films Deposited by Magnetron Sputtering on Electrochromic Performance
作者单位
1 常州亚玛顿股份有限公司光电玻璃省重点实验室, 江苏 常州 213000
2 常州大学光伏科学与工程协同创新中心, 江苏 常州 213000
补充材料

初文静, 张喜强, 施瑕玉, 郑友伟, 林俊良, 陈明亿, 林金锡, 林金汉, 袁宁一. 磁控溅射法制备氧化钨薄膜的膜层微观结构对电致变色性能的影响[J]. 激光与光电子学进展, 2017, 54(11): 113103. Chu Wenjing, Zhang Xiqiang, Shi Xiayu, Zheng Youwei, Lin Junliang, Chen Mingyi, Lin Jinxi, Lin Jinhan, Yuan Ningyi. Effect of Film Micro-Structure of Tungsten Oxide Films Deposited by Magnetron Sputtering on Electrochromic Performance[J]. Laser & Optoelectronics Progress, 2017, 54(11): 113103.

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