半导体光电, 2018, 39 (6): 815, 网络出版: 2019-01-10
磨料对硒化锌雾化施液化学机械抛光的影响
Effect of Abrasive on Ultrasound Fine Atomization CMP of Zinc Selenide
基本信息
| DOI: | 10.16818/j.issn1001-5868.2018.06.012 |
| 中图分类号: | TN305.2 |
| 栏目: | 材料、结构及工艺 |
| 项目基金: | 国家自然科学基金项目(51175228) |
| 收稿日期: | 2017-09-12 |
| 修改稿日期: | -- |
| 网络出版日期: | 2019-01-10 |
| 通讯作者: | 李庆忠 (794815004@qq.com) |
| 备注: | -- |
李庆忠, 施卫彬, 夏明光. 磨料对硒化锌雾化施液化学机械抛光的影响[J]. 半导体光电, 2018, 39(6): 815. LI Qingzhong, SHI Weibin, XIA Mingguang. Effect of Abrasive on Ultrasound Fine Atomization CMP of Zinc Selenide[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2018, 39(6): 815.
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