半导体光电, 2018, 39 (6): 815, 网络出版: 2019-01-10
磨料对硒化锌雾化施液化学机械抛光的影响
Effect of Abrasive on Ultrasound Fine Atomization CMP of Zinc Selenide
硒化锌 雾化施液 化学机械抛光 磨料 去除速率 表面粗糙度 zinc selenide atomization slurry chemical mechanical polishing abrasive removal rate surface roughness
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