环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响

王英龙; 张荣梅; 傅广生; 彭英才; 孙运涛

中国激光, 2004, 31 (6): 698, 网络出版: 2006-06-12

环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响

Influence of Inert Gas Pressure on the Surface Roughness of Silicon Film Prepared by Pulsed Laser Deposition

王英龙 ^1,*张荣梅 ¹傅广生 ¹彭英才 ²孙运涛 ¹

作者单位

¹ 河北大学物理科学与技术学院, 河北保定 071002

² 电子信息工程学院,河北保定 071002

引用该论文

王英龙, 张荣梅, 傅广生, 彭英才, 孙运涛. 环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响[J]. 中国激光, 2004, 31(6): 698.

王英龙, 张荣梅, 傅广生, 彭英才, 孙运涛. Influence of Inert Gas Pressure on the Surface Roughness of Silicon Film Prepared by Pulsed Laser Deposition[J]. Chinese Journal of Lasers, 2004, 31(6): 698.

引用列表

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王英龙, 张荣梅, 傅广生, 彭英才, 孙运涛. 环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响[J]. 中国激光, 2004, 31(6): 698. 王英龙, 张荣梅, 傅广生, 彭英才, 孙运涛. Influence of Inert Gas Pressure on the Surface Roughness of Silicon Film Prepared by Pulsed Laser Deposition[J]. Chinese Journal of Lasers, 2004, 31(6): 698.

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