中国激光, 2004, 31 (6): 698, 网络出版: 2006-06-12   

环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响

Influence of Inert Gas Pressure on the Surface Roughness of Silicon Film Prepared by Pulsed Laser Deposition
作者单位
1 河北大学物理科学与技术学院, 河北 保定 071002
2 电子信息工程学院,河北 保定 071002
引用该论文

王英龙, 张荣梅, 傅广生, 彭英才, 孙运涛. 环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响[J]. 中国激光, 2004, 31(6): 698.

王英龙, 张荣梅, 傅广生, 彭英才, 孙运涛. Influence of Inert Gas Pressure on the Surface Roughness of Silicon Film Prepared by Pulsed Laser Deposition[J]. Chinese Journal of Lasers, 2004, 31(6): 698.

参考文献

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王英龙, 张荣梅, 傅广生, 彭英才, 孙运涛. 环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响[J]. 中国激光, 2004, 31(6): 698. 王英龙, 张荣梅, 傅广生, 彭英才, 孙运涛. Influence of Inert Gas Pressure on the Surface Roughness of Silicon Film Prepared by Pulsed Laser Deposition[J]. Chinese Journal of Lasers, 2004, 31(6): 698.

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