中国激光, 2004, 31 (6): 698, 网络出版: 2006-06-12
环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响
Influence of Inert Gas Pressure on the Surface Roughness of Silicon Film Prepared by Pulsed Laser Deposition
基本信息
| DOI: | -- |
| 中图分类号: | 分类号 |
| 栏目: | 材料与薄膜 |
| 项目基金: | 河北省自然科学基金(500084，503125)资助课题 |
| 收稿日期: | 2003-02-19 |
| 修改稿日期: | 2003-02-19 |
| 网络出版日期: | 2006-06-12 |
| 通讯作者: | 王英龙 (hdwangyl@sina.com) |
| 备注: | -- |
王英龙, 张荣梅, 傅广生, 彭英才, 孙运涛. 环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响[J]. 中国激光, 2004, 31(6): 698. 王英龙, 张荣梅, 傅广生, 彭英才, 孙运涛. Influence of Inert Gas Pressure on the Surface Roughness of Silicon Film Prepared by Pulsed Laser Deposition[J]. Chinese Journal of Lasers, 2004, 31(6): 698.
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