王姗姗 1石峰 2,*乔硕 2徐博文 1[ ... ]彭星 2
作者单位
摘要
1 北京理工大学 光电学院,精密光电测试仪器及技术北京市重点实验室,北京 100081
2 国防科技大学 智能科学学院,长沙 410073
3 长春理工大学 光电工程学院,长春 130022
针对基于强光元件高精度面形在位检测需求,开展了面形测量误差敏感因素仿真分析,进行了系统结构误差和温度误差对测量结果的影响研究,分析各类误差对测量面形误差的具体影响,设计并搭建在位检测系统,开展系统温度变化、系统重复性、系统稳定性等测量实验。研究结果表明:所建立的逆向哈特曼仿真检测模型可用于平面、球面、非球面、自由曲面等各类型被测面,各类影响因素对测量结果的影响主要体现在低频误差上,对高频误差的影响相对较小,搭建的在位检测系统6 h内测量面形误差PV值最大不超过68 nm(约λ/10),RMS值最大不超过15 nm(约λ/40)。
面形测量 在位检测 强光元件 误差分析 仿真模型 shape measurement in-situ measurement optical element error analysis simulation model 
强激光与粒子束
2023, 35(9): 091002
彭星 1,2,3翟德德 1,2,3石峰 1,2,3,*田野 1,2,3[ ... ]阮宁烨 1,2,3
作者单位
摘要
1 国防科技大学 智能科学学院,湖南 长沙 410073
2 湖南省超精密加工技术重点实验室,湖南 长沙 410073
3 装备综合保障技术重点实验室,湖南 长沙 410073
针对激光增材制造高反射金属工件表面缺陷的高精稳健检测与评估这一工程难题,设计了一种基于高反射抑制效应的偏振检测系统,能够有效避免背景杂波干扰,提升复杂检测环境下的缺陷探测能力。系统基于Q-type非球面设计,其像差校正能力强,简化了系统结构,第7表面面型与最佳拟合球面偏离量仅0.371 μm,第9表面面型与最佳拟合球面偏离量仅0.434 μm,焦距为50 mm,F数为2,工作距离为300 mm。仿真结果表明,调制传递函数在奈奎斯特频率为144.93 lp/mm处优于0.42,满足成像质量要求;公差分析和2000次蒙特卡洛分析结果显示,在满足偏振检测系统成像质量条件下,公差范围合理,符合加工与装配条件。同时,基于斯托克斯矢量法提取高反射检测图像中的缺陷偏振态信息,实现斯托克斯矢量、偏振度和偏振角信息的高反射抑制重构,有效提升偏振检测图像对比度、凸显缺陷轮廓信息及形貌特征,对激光增材制造高反射金属工件表面缺陷的特征提取与表征分析具有重要意义。
激光增材制造 偏振检测 光学设计 缺陷 laser additive manufacturing polarization detection optical design defects 
红外与激光工程
2023, 52(6): 20220863
石峰 1乔硕 1邓明杰 1宋辞 1[ ... ]申箫 1
作者单位
摘要
1 国防科技大学 智能科学学院,湖南 长沙 410073
2 北京理工大学 光电学院,北京 100081
3 合肥知常光电科技有限公司,安徽 合肥 230000
针对现有小尺寸集群损伤修复及检测技术仍不完善的问题,重点研究亚表面缺陷多模态原位检测方法,从损伤样件表面损伤数量和尺寸、典型小尺寸损伤的形貌、光热吸收、荧光面积等多项指标进行了系统测量和分析,并开展了磁流变修复研究。研究结果表明:熔石英小尺寸损伤内部的吸收性杂质是影响元件性能的主要因素,在磁流变缎带接触到损伤底部前,损伤的整体吸收和荧光分布呈上升趋势;高重频激光对磁流变修复后的损伤辐照过程是一个由慢变快、由杂质到本体、由边缘逐渐向外扩张的过程,能够有效对磁流变修复后的表面进一步起到修复作用,可作为组合修复工艺的第三道工序。研究结果对光学元件检测表征体系的构建提供参考。
光学工程 熔石英 集群损伤 损伤修复 多模态检测 optical engineering fused silica cluster damage damage mitigation multi-modal detection 
红外与激光工程
2022, 51(9): 20220539
石峰 1,2,*田野 1,2,*乔硕 1,2,3,*周光奇 1,2[ ... ]周港 1,2
作者单位
摘要
1 国防科技大学智能科学学院, 湖南 长沙 410073
2 国防科技大学装备综合保障技术重点实验室, 湖南 长沙 410073
3 长沙学院机电工程学院, 湖南 长沙 410022
4 空军工程大学航空机务士官学校, 河南 信阳 464000
单晶硅反射镜是高能激光系统中的重要元件,其加工质量直接影响着高能激光系统的整体性能指标。针对单晶硅反射镜加工过程中产生的各类缺陷问题,本研究团队提出了采用超精密切削、浸没式抛光、磁流变抛光、离子束抛光等超精密加工方法来提升单晶硅元件的加工质量,并开展了相关研究。本文主要综述了本团队近几年在单晶硅制造技术领域取得的研究进展,包括单晶硅纳米精度表面控形制造技术、单晶硅纳米精度本征表面控性生成方法、纳米精度控形控性组合工艺等一系列关键技术。通过探讨高能激光单晶硅元件制造的现状与关键技术,为实现单晶硅元件纳米精度控形控性制造提供技术支撑。
光学制造 高能激光系统 单晶硅元件 浸没式光顺抛光 离子束抛光 
中国激光
2021, 48(4): 0401007

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