1 华中理工大学固体电子学系, 武汉 430074
2 华中理工大学激光技术国家实验室, 武汉 430074
利用脉冲准分子激光(工作气体XeCl,波长308 nm,脉宽28 ns)在外延YBCOLaAlO3(100)单晶基片上淀积了Pb(Zr0.55Ti0.45)O3铁电薄膜,YBCO薄膜既为生长高取向PZT薄膜提供了晶体匹配条件,同时也为PZT铁电薄膜提供了下电极。讨论了工艺参数对晶相结构和表面形貌的影响。用X射线衍射表征了该多层膜的晶相结构,扫描电镜观察其表面形貌。PZT铁电薄膜的剩余极化为21 μC/cm,矫顽场为65 kV/cm。
激光原位淀积 铁电薄膜
