介绍了制备光学合成石英玻璃的常用工艺方法, 包括化学气相沉积、等离子化学气相沉积和间接合成法等; 给出了不同光学石英玻璃使用的原材料、它们的特点及其在不同领域的应用综述了该项技术在国内外的发展现状。比较了上述制备方法的优缺点, 其中立式化学气相沉积工艺是目前最成熟的商业化工艺, 可用于制备直径达Φ600 mm以上、光学均匀性优于2×10-6、抗激光损伤阈值达30 J/cm2@355 nm的大尺寸合成石英玻璃; 等离子化学气相沉积工艺可制备内在质量优异、羟基含量≤5×10-6、光谱透过率T190-4000 nm≥80%的全光谱透过石英玻璃; 间接合成法可制备光吸收系数小于1×10-6/cm@1064 nm、羟基含量≤1×10-6、光谱透过率T157-4000 nm≥80%的石英玻璃, 而且易于掺杂及控制缺陷, 进而制备各类掺杂特殊功能的石英玻璃。文章最后指出: 上述制备工艺各有优缺点, 应根据高端光电技术领域的应用需求采取适当的制备工艺。

论述了用激光干涉仪测量石英玻璃光学均匀性时测量范围扩展的问题。通过理论研究和实际测量, 完成了用180mm孔径干涉仪测量300mm孔径石英玻璃光学均匀性这一目标, 为实现用300mm孔径干涉仪测量直径500mm石英玻璃的光学均匀性测量问题奠定了理论与实践的基础。实验通过建立光学均匀性测量范围扩展的数学模型, 采用最小二乘法误差消除方法, 每步波面分别计算, 最后四步合成。创新性地设计了移动测量载物调整装置, 实现了高精度多维调整。采用8个子孔径就3块圆形玻璃进行了测试, 就拼接测量结果与直接全口径测量结果进行了对标, 其拼接波面的均匀性绝对误差平均值分别为0.13×10-5、0.14×10-5、0.03×10-6。