三峡大学材料与化工学院，无机非金属晶态与能源转换材料重点实验室，宜昌 443002
采用溶胶-凝胶旋涂法在玻璃衬底上沉积纳米结构Ti、Ga共掺ZnO薄膜(TGZO，Ga掺杂量为1.0%(原子分数，下同))，用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计(UV-Vis)、四探针测试仪、霍尔效应测试仪研究了Ti含量对TGZO薄膜的物相组成、表面形貌、电学和光学性能的影响。结果表明：所有TGZO薄膜均表现出六方纤锌矿的多晶结构，并具有(002)择优取向生长，在380~780 nm波长范围内具有良好的透射率(>86％)；随着Ti含量的增加，TGZO薄膜的晶粒尺寸和可见光平均透射率均先增加后减小，而光学带隙和电阻率先减小后增加；Ti掺杂量为1.0%时，具有最高的可见光透射率92.82%，最窄的光学带隙3.249 eV，以及最低电阻率2.544×10-3 Ω·cm。
TGZO薄膜 溶胶凝胶法 光电性能 c轴择优取向 高透过率 TGZO thin film sol-gel method photoelectric property c-axis preferred orientation high transmittance
