1 中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209
2 中国科学院研究生院,北京,100039
激光显示系统中常采用高速宽带声光调制器调制激光光强,使衍射光束的光强随视频信号变化,系统要求调制器具有很快的响应速度和很高的衍射效率.采用熔石英作为声光介质,铌酸锂作为换能器,设计并制作出工作中心频率为180MHz,调制频率为32MHz,衍射效率达75%的高速宽带声光调制器.并设计了一套使激光光源和声光调制器相匹配的光学系统,在优化激光束聚焦的基础上提高调制速度.设计的高速声光调制器基本满足了激光显示的要求.
激光显示 声光调制 调制速度 衍射效率
1 中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209
2 中国科学院研究生院,北京,100039
利用铌酸锂晶体为压电换能器,熔石英为声光互作用介质,研制出调制速度为32MHz、工作频率为180MHz、渡越时间为15ns、用于RGB彩色合成中的的声光调制器,文中主要讨论和分析了Q参数与调制器中心工作频率、换能器长度的关系;讨论了R参数对衍射光束形状的影响及与衍射效率的关系,还讨论并确定了换能器最佳尺寸,经测试,高速率声光调制器衍射效率为47%,并测试了调制速度.
彩色合成 声光调制器 调制速度 渡越时间
介绍一种新型远红外声光调制器,采用高品质因子Ge单晶(III) 方向传声作为声光介质,铌酸锂晶体作为压电换能器,工作中心频率为80MHz;还介绍了两种散热结构,经测试比较,环绕散热结构比背面散热结构的衍射效率提高10%,而且光斑质量也明显变好,较大地提高了远红外声光调制器的性能,利用10W高频驱动功率,测得锗声光器件的峰值衍射效率为65%.它的成功为声光调制器在激光雷达、远距离目标跟踪等方面的远红外技术应用,具有实际意义.
Ge单晶 压电换能器 品质因子 远红外技术 Ge single crystal piezoelectric transducer character divison far infrared technology
1 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209
2 中国科学院微电子中心,北京,100029
用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模(PSM)技术主要有无铬相移掩模(CPM),交替相移掩模(APSM)、衰减相移掩模(AttPSM)和混合相移掩模技术.对这些掩模的基本原理、制作方法及性能比较进行了分析研究.研究表明,无铬相位光刻(CPL)PSM和高透AttPSM 相结合构成的混合掩模最适合用于193nmArF光刻,以产生100nm节点抗蚀剂图形.
激光光刻技术 相移掩模 准分子光刻
中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209
利用Ge单晶良好的机械、声光性能,研制出工作中心频率为70MHz、波长为10.6μm的锗声光调制器.该器件采用高品质因数Ge单晶(III)作为声光介质, y36(切铌酸锂晶体作为压电换能器.由于锗器件对热变化特别敏感,所以设计了环绕结构和背面结构两种不同的吸热系统,测试表明,采用环绕结构比采用背面结构时衍射效率可提高10%以上,而且光斑质量也明显变好.用13W高频驱动功率驱动锗晶体声光调制器,其最大峰值衍射率达到68%.
声光调制器 压电换能器 高频驱动 远红外技术
1 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209
2 四川大学物理系,四川,成都,610064
介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原理和实验系统设计.提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方便制作高分辨力、长尺寸光纤光栅,无论是周期光栅,还是非周期光栅.
相移掩模 双曝光技术 光纤光栅 干涉光刻
中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209
根据声光互作用原理,以TeO2晶体为互作用介质,选取互作用长度为28mm,设计制成近红外声光可调滤光器 (AOTF),其衍射波长与超声频率存在对应关系.测试结果表明,该器件的工作波长范围为0.9～2.6μm,驱动频率为40~120MHz,光谱分辨力为7.268nm,6.957nm(对应波长分别为1.5μm,2.4μm).
声光器件 红外滤波器 声光滤光器 光谱分辨力
中国科学院成都光电技术研究所,四川,成都,610209
