Particle Gap是TFT-LCD制程中常见的一种缺陷。以55 UHD产品为例, Particle Gap发生率约为1.0%, 对产品良率影响较大, 为提升液晶屏品质和客户满意度, 急需改善此不良。文章结合不良现象研究Particle Gap的主要异物模式, 最终通过改善CF研磨失败异物、沙粒状异物和透明状异物这种模式达到整体Particle Gap降低的效果。首先利用流程图分析影响异物模式的关键步骤, 然后通过鱼骨图、决策矩阵、假设检验验证找出影响异物模式的显著因素, 最后通过合力促进法总结出显著因素的最佳改善方案, 导入量产并文件标准化, 可平行推广至55UHD以外的其它尺寸。改善结果表明：通过以上3种异物类型的改善, 55UHD Particle Gap发生率降低至少30%, 为公司带来了巨大且显著的硬性节省。

Panel污渍是TFT-LCD生产中一种常见的不良, 它直接影响到产品的画面品质和出售价格, 降低产品竞争力。本文通过研究发现大量panel污渍是摩擦产生的含Si元素杂质导致。实验表明: 降低制品膜面的粗糙度, 使杂质更易去除; 通过提升摩擦后的清洗能力, 也能有效去除杂质, 一定程度降低了panel污渍发生率; 而最后通过导入C系列摩擦布, 使摩擦过程中产生极少杂质。通过导入以上3种改善措施, 最终将55UHD产品的panel污渍发生率从8.2%降至0.2%。

本文建立了黑矩阵扩散法修复亮点的理论模型并实验验证了该模型, 分析了影响修复效果的各个因素及影响程度, 为提升亮点修复成功率奠定基础。我们设置一系列实验, 定性分析了激光泵浦源、激光波长、光斑大小、加工速度、产品设计和修复模式因素对修复效果的影响。首先, 通过FIB图像分析, 验证了创建的修复理论模型; 其次, 分析了上述因素对修复成功率的影响, 最后对一款修复难度大的产品进行改善提升。实验结果表明：修复过程按照产生空隙(Gap, 约1.5 μm), 黑矩阵颗粒化和空隙填充三阶段进行; 从成功率看, Laser Diode泵浦方式优于Flash Lamp, B 波长激光优于 A 波长激光, 光斑大小选取1/2子像素、速度选取100 ~200 μm/s时Gap成功率最高, 有Overcoat层(OC)且黑矩阵(BM)比重大的产品修复成功率更高。最后我们以上述理论分析和实验结果为指导, 将一款修复难度极大的产品的成功率从40% 提升到 90% 以上。