Particle Gap是TFT-LCD制程中常见的一种缺陷。以55 UHD产品为例, Particle Gap发生率约为1.0%, 对产品良率影响较大, 为提升液晶屏品质和客户满意度, 急需改善此不良。文章结合不良现象研究Particle Gap的主要异物模式, 最终通过改善CF研磨失败异物、沙粒状异物和透明状异物这种模式达到整体Particle Gap降低的效果。首先利用流程图分析影响异物模式的关键步骤, 然后通过鱼骨图、决策矩阵、假设检验验证找出影响异物模式的显著因素, 最后通过合力促进法总结出显著因素的最佳改善方案, 导入量产并文件标准化, 可平行推广至55UHD以外的其它尺寸。改善结果表明：通过以上3种异物类型的改善, 55UHD Particle Gap发生率降低至少30%, 为公司带来了巨大且显著的硬性节省。

Panel污渍是TFT-LCD生产中一种常见的不良, 它直接影响到产品的画面品质和出售价格, 降低产品竞争力。本文通过研究发现大量panel污渍是摩擦产生的含Si元素杂质导致。实验表明: 降低制品膜面的粗糙度, 使杂质更易去除; 通过提升摩擦后的清洗能力, 也能有效去除杂质, 一定程度降低了panel污渍发生率; 而最后通过导入C系列摩擦布, 使摩擦过程中产生极少杂质。通过导入以上3种改善措施, 最终将55UHD产品的panel污渍发生率从8.2%降至0.2%。

影像残留是TFT-LCD，特别是TN型产品常见的不良，对产品良率影响很大。本文从产品设计、工艺参数、工艺管控3个方面对残影进行分析。发现产品设计时Data线两侧段差过大，是导致残影发生的主要原因，通过增加配向膜厚度和摩擦强度值可以有效降低残影，实验得出配向膜膜厚高于110 nm，摩擦强度高于5.5 N·m时无残影发生。通过控制配向膜工程与摩擦工程间的延迟时间在5 h，摩擦工程与对盒工程间的延迟时间在10 h，并且严格管控ITO偏移量可以有效减少Panel内部电场，从而降低残影。通过以上措施，对于15.6HD产品，良率提升了10%，为企业高效生产奠定基础。