为降低TFT-LCD生产过程中切换残影不良的发生率, 在考虑残影的主要影响因素基础上, 采用实验设计(DOE) 中的部分因子实验设计筛选该不良的显著因子, 结合生产实际开展切换残影的改善研究工作。研究结果表明: DOE方法能有效辨别残影不良的显著因子有覆盖层(Over coater, OC)、重叠部分(ITO-Vcom Overlay, OL)和摩擦扭转力(Rubbing Torque), 在实际生产的不良改善过程中, 彩膜玻璃(Color Filter, CF)增加OC、加大OL和提高Rubbing Torque值均能有效降低残影不良发生率; 研究结果为切换残影和改善TFT-LCD生产过程中其他不良提供了新思路。

影像残留是TFT-LCD，特别是TN型产品常见的不良，对产品良率影响很大。本文从产品设计、工艺参数、工艺管控3个方面对残影进行分析。发现产品设计时Data线两侧段差过大，是导致残影发生的主要原因，通过增加配向膜厚度和摩擦强度值可以有效降低残影，实验得出配向膜膜厚高于110 nm，摩擦强度高于5.5 N·m时无残影发生。通过控制配向膜工程与摩擦工程间的延迟时间在5 h，摩擦工程与对盒工程间的延迟时间在10 h，并且严格管控ITO偏移量可以有效减少Panel内部电场，从而降低残影。通过以上措施，对于15.6HD产品，良率提升了10%，为企业高效生产奠定基础。

影像残留显示现象存在于各类LCD中，大多为离子效应所引起。针对这一问题，分析了不同配向膜对自由离子电荷的吸附情况，以及选用合适的配向膜搭配不同液晶材料、盒内自由离子电荷的浓度情况等对残影显示的影响。实验发现，选用合适的配向膜，增加重配向时间，有利于消除残影现象; 在一定配向膜基础上，选用低阈值液晶或选用添加抗静电剂液晶，更容易消除残影现象。不过，在实际运用中，重配向时间的增加会影响液晶陡度; 低阈值液晶会使液晶陡度变差同时使响应速度变慢，且容易出现显示不均; 抗静电剂液晶也会导致显示不均。因此在实际运用中，必须平衡以上各条件，才能在不影响其他性能前提下，更有效地改善残影现象，提高STN-LCD的显示质量。