作者单位
摘要
昆明物理研究所,云南 昆明 650223
提高红外探测器的工作温度对于减小红外系统的尺寸、重量和功耗至关重要,进而实现结构紧凑和成本低廉的红外系统。昆明物理研究所多年来对掺铟和砷离子注入技术的HgCdTe p-on-n技术进行了优化,实现了性能优异的中波红外探测器的研制。本文报道了高工作温度中波1024×768@10 μm红外焦平面阵列探测器的最新结果,并介绍了在150 K工作温度下的器件性能。结果标明,器件在150 K下截止波长为4.97 μm,并测得了不同工作温度下的NETD、暗电流和有效像元率。此外,还展示了在150 K的工作温度下焦平面器件的红外图像,并呈现了99.4%的有效像元率。
碲镉汞 高工作温度 中波红外 噪声等效温差 暗电流 HgCdTe HOT MWIR NETD dark current 
红外与毫米波学报
2023, 42(6): 711
作者单位
摘要
昆明物理研究所,云南 昆明 650223
在(211)B碲锌镉衬底上,采用分子束外延生长制备了PPP型中长双色碲镉汞材料,通过台面孔刻蚀、侧壁钝化等工艺,实现中长双色640×512 红外焦平面探测器组件研制。中长双色碲镉汞材料测试结果表明,表面宏观缺陷(2~10 μm)密度统计分布约773 cm-2,同时对材料进行了XRD双晶衍射半峰宽(FWHM)测试和位错腐蚀坑(EPD)统计,XRD测试FWHM约31.9 arcsec,EPD统计值约为5×105cm-2;双色器件芯片台面刻蚀深度达到8 μm以上,深宽比达到1∶1以上,侧壁覆盖率达到72.5%。中长双色红外焦平面组件测试结果表明,中波波长响应范围为3.6~5.0 μm,长波波长响应范围为7.4~9.7 μm,中波向长波的串音为0.9 %,长波向中波的串音为3.1 %,中波平均峰值探测率达到3.31×1011 cm·Hz1/2/W,NETD为17.7 mK;长波平均峰值探测率达到6.52×1010 cm·Hz1/2/W,NETD为32.8 mK;中波有效像元率达到99.46%,长波有效像元率达到98.19 %,初步实现中长双色红外焦平面组件研制。
中长双色 碲镉汞 分子束外延 等离子体刻蚀 串音 MW/LW dual-band HgCdTe molecular beam epitaxy(MBE) plasma etch cross-talk 
红外与毫米波学报
2023, 42(3): 292
作者单位
摘要
昆明物理研究所,云南昆明 650223
分子束外延碲镉汞技术是制备第三代红外焦平面探测器的重要手段,基于异质衬底的碲镉汞材料具有尺寸大、成本低、与常规半导体设备兼容等优点,是目前低成本高性能红外探测器发展中的研究重点。对异质衬底上碲镉汞薄膜位错密度随厚度的变化规律进行了建模计算,结果显示 .~1/h模型与实验结果吻合度好,异质衬底上原生碲镉汞薄膜受位错反应半径制约,其位错密度无法降低至 5×10 6 cm -2以下,难以满足长波、甚长波器件的应用需求。为了有效降低异质外延的碲镉汞材料位错密度,近年来出现了循环退火、位错阻挡和台面位错吸除等位错抑制技术,本文介绍了各技术的原理及进展,分析了后续发展趋势及重点。循环退火和位错阻挡技术突破难度大,发展潜力小,难以将碲镉汞位错密度控制在 5×105 cm -2以内。台面位错吸除技术目前已经显示出了巨大的发展潜力和价值,后续与芯片工艺融合后,有望大幅促进低成本长波、中长波、甚长波器件的发展。
碲镉汞 异质衬底 位错抑制 循环退火 位错阻挡 台面位错吸除 HgCdTe, alternative substrates, dislocation reduct 
红外技术
2022, 44(8): 828
作者单位
摘要
昆明物理研究所, 云南昆明 650223
本文系统地介绍了国内外研究机构对超晶格界面进行研究时采用的测试分析手段。其中, 通过拉曼光谱、高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)、扫描隧道显微镜(STM)、二次离子质谱(SIMS)、 X射线光电子能谱(XPS)等测试方法可以对 InAs/GaSb II类超晶格材料界面类型、界面粗糙度、陡峭性等特性进行测试分析, 从而评估超晶格界面质量。光致发光谱(PL谱)、高分辨率 X射线衍射(HRXRD)、霍尔测试、吸收光谱等测试方法则可以研究超晶格界面质量对超晶格材料能带、晶体质量、光学性质的影响。
InAs/GaSb II类超晶格 InSb-like界面 GaAs-like界面 陡峭性 InAs/GaSb type-II superlattice, InSb-like interfac 
红外技术
2022, 44(2): 115
作者单位
摘要
昆明物理研究所,云南昆明 650223
本文系统地介绍. MBE外延生长 InAs/GaSb II类超晶格材料的界面控制方法,主要包括生长中断法、表面迁移增强法、V族元素浸润法和体材料生长法。短波(中波)InAs/GaSb超晶格材料界面采用混合(mixed-like)界面,控制方法以生长中断法为主;长波(甚长波)超晶格材料界面采用 InSb-like界面,控制方法采用表面迁移增强法(migration-enhanced epitaxy, MEE)或 Sb soak法及体材料生长相结合。讨论分析. InAs/GaSb超晶格材料界面类型选择的依据,简述了界面控制具体实施理论,以及相关研究机构对于不同红外探测波段的超晶格材料界面类型及控制方法的选择。通过界面结构外延生长工艺设计即在界面控制方法的基础上进行快门顺序实验设计,有效地提高界面层的应力补偿效果,这对于长波、甚长波及双色(甚至多色)超晶格材料的晶体质量优化和器件性能提升具有重要意义。
InAs/GaSb II类超晶格 InSb-like界面 GaAs-like界面 生长中断法 InAs/GaSb type II superlattice, InSb-like interfac MEE 
红外技术
2021, 43(4): 301
作者单位
摘要
1 昆明物理研究所,云南 昆明 650223
2 陆军装备部驻重庆地区军事代表局驻昆明地区第一军事代表室,云南 昆明 650223
基于当前红外探测器技术的发展方向,从高工作温度红外探测器应用需求的角度分析了碲镉汞高工作温度红外探测器在组件重量、外形尺寸、功耗、环境适应性及可靠性方面的优势。总结了欧美等发达国家在碲镉汞高工作温度红外探测器研究方面的技术路线及研究现状。从器件暗电流和噪声机制的角度分析了碲镉汞光电器件在不同工作温度下的暗电流和噪声变化情况及其对器件性能的影响;总结了包括基于工艺优化的Hg空位p型n-on-p结构碲镉汞器件、基于In掺杂p-on-n结构和Au掺杂n-on-p结构的非本征掺杂碲镉汞高工作温度器件、基于nBn势垒阻挡结构的碲镉汞高工作温度器件及基于吸收层热激发载流子俄歇抑制的非平衡模式碲镉汞高工作温度器件在内的不同技术路线碲镉汞高工作温度器件的基本原理,对比分析了不同技术路线碲镉汞高工作温度器件的性能及探测器制备的技术难点。在综合分析不同技术路线高温器件性能与技术实现难度的基础上展望了碲镉汞高工作温度器件技术未来的发展方向,认为基于低浓度掺杂吸收层的全耗尽结构器件具备更好的发展潜力。
碲镉汞 俄歇抑制 SRH抑制 暗电流 高工作温度 HgCdTe auger suppression SRH suppression dark currents HOT 
红外与激光工程
2021, 50(4): 20200328
作者单位
摘要
昆明物理研究所,昆明 650223
碲镉汞(MCT)自从问世以来一直是高端红外(IR)探测器领域的首选材料,分子束外延碲镉汞技术具有低成本异质外延、材料能带精准调控、原位成结等优势,是第三代红外焦平面陈列(FPA)器件研制的重要手段。本文报道了昆明物理研究所分子束外延(MBE)MCT薄膜技术进展,包括材料结构、晶体质量、表面缺陷、材料均匀性、掺杂浓度等参数优化控制的研究结果。异质衬底、碲锌镉衬底上MCT薄膜尺寸分别为4英寸(10.16 cm)及2.5 cm×2.5 cm,材料EPD值分别在1×106 cm-2附近及(3~30)×104 cm-2范围,表面宏观缺陷密度分别在30 cm-2附近及100~300 cm-2范围,薄膜质量与国内外先进水平相当。采用分子束外延MCT薄膜实现了2 048×2 048中波红外(MWIR)、2 048×2 048短波甚高分辨率红外(SWIR)焦平面、640×512中短双色红外(S-MWIR)、320×256中中双色红外(M-MWIR)FPA探测器的研制和验证。
分子束外延 碲镉汞 碲锌镉衬底 异质衬底 红外探测器 molecular beam epitaxy(MBE) HgCdTe CdZnTe substrate alternative substrate IR dector 
人工晶体学报
2020, 49(12): 2221
作者单位
摘要
昆明物理研究所,云南昆明 650223
“燕尾”状缺陷是异质外延碲镉汞薄膜中一种形状、朝向统一的典型缺陷,本文对“燕尾”状缺陷的表面形貌、结构及形成机理进行了表征及研究。结果表明,在碲镉汞薄膜表面,“燕尾”状缺陷以两条凸起的“燕尾”边为特征形貌。在碲镉汞薄膜中,“燕尾”状缺陷为倒金字塔结构,由(11ˉ1ˉ) 1ˉ1ˉ1 (11ˉ1)(111ˉ) 四个底面与(211)表面围成。“燕尾”状缺陷为(552)A孪晶缺陷,(552)A孪晶与(211)A基体间不同的生长速率导致了缺陷的形成。碲镉汞晶体中12个滑移系统间不同的Schmid因子决定了(552)A孪晶成核生长于1ˉ1ˉ1 (11ˉ1)面,也决定了“燕尾”状缺陷的表面形貌及结构。
碲镉汞 缺陷 孪晶 极性面 施密特因子 HgCdTe defect twin crystal polar surface Schmid factor 
红外与毫米波学报
2020, 39(6): 690
作者单位
摘要
1 昆明物理研究所,云南昆明 650223
2 国网辽阳供电公司,辽宁辽阳 111000
本文简述了 MBE异质外延碲镉汞薄膜位错形成机理、位错在外延层中的演化过程以及位错抑制理论,总结了国内外 CdTe缓冲层的位错抑制技术、HgCdTe薄膜的位错抑制技术,分析了热循环退火技术各个要素与位错密度变化之间的关系。
异质衬底 碲镉汞 位错抑制 循环退火 腐蚀坑密度 hetero-substrate HgCdTe dislocation suppression cycle annealing etch pit density (EPD) 
红外技术
2019, 41(5): 405
作者单位
摘要
昆明物理研究所, 云南 昆明 650223
对碲镉汞红外焦平面热响应图“交叉线”特征起源进行了研究。基于碲镉汞的闪锌矿结构晶体滑移系统理论, 讨论了不同滑移面与碲镉汞薄膜生长所用 (111)B面和(211)B面交线的方向, 从晶格失配和应力释放的角度探讨了碲镉汞薄膜表面交叉线形貌与 X射线衍射交叉线貌相的起源与几何结构, 分析了碲镉汞薄膜交叉线与材料晶体质量之间的关系, 探讨了碲镉汞红外焦平面热响应图交叉线特征的起源及其与器件性能的关系。
碲镉汞 晶格失配 滑移系统 残余应变 交叉线 HgCdTe lattice mismatch slip system residual strain crosshatch pattern 
红外技术
2019, 41(2): 101

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