作者单位
摘要
1 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室, 吉林 长春 130022
2 长春理工大学材料科学与工程学院, 吉林 长春 130022
研究了退火温度对原子层沉积(ALD)生长的铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜光电性能的影响,结果发现:AZO薄膜在600 ℃退火后,X射线衍射峰的半峰全宽从未退火时的0.609°减小到0.454°,晶体质量得到提升;600 ℃退火后,薄膜的表面粗糙度从未退火时的0.841 nm降低至0.738 nm;400 ℃退火后,薄膜的载流子浓度和迁移率均达到最大值,分别为1.9×10 19 cm -3和4.2 cm 2·V -1·s -1,之后随着退火温度进一步升高,载流子浓度和迁移率降低;退火温度由300 ℃升高到600 ℃过程中薄膜的吸收边先蓝移后红移。
材料 光学性能 电学性能 铝掺杂氧化锌薄膜 退火 原子层沉积技术 
中国激光
2019, 46(4): 0403002

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!