作者单位
摘要
1 太原长城微光微通电子科技有限公司,山西 太原 030032
2 核探测与核电子学国家重点实验室,中国科学院高能物理研究所,北京 100049
3 中国科学院大学,北京 100049
4 北方夜视技术股份有限公司,云南 昆明 650217
微孔玻璃阵列是采用原子层沉积技术制作微通道板的基底板,其微孔阵列的分布均匀性以及每个通道内壁的光滑程度,对其后续制作合格微通道板至关重要。分别采用空芯工艺和实芯腐蚀工艺来制作上述基底板,分析了两种技术的优缺点,阐述了两种方法中的关键技术,并对原子沉积技术制作的微通道板与常规工艺制作的微通道板进行了性能比较,前者的信噪比优于后者。
微孔玻璃阵列 微通道板 原子层沉积技术 空芯法 实芯法 均匀性 内壁粗糙度 信噪比 micro-pore glass array micro-channel plate atomic-layer deposition technology hollow core glass method solid-core method uniformity roughness of inner wall signal-to-noise ratio 
应用光学
2021, 42(5): 796
作者单位
摘要
1 长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室, 吉林 长春 130022
2 长春理工大学材料科学与工程学院, 吉林 长春 130022
研究了退火温度对原子层沉积(ALD)生长的铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜光电性能的影响,结果发现:AZO薄膜在600 ℃退火后,X射线衍射峰的半峰全宽从未退火时的0.609°减小到0.454°,晶体质量得到提升;600 ℃退火后,薄膜的表面粗糙度从未退火时的0.841 nm降低至0.738 nm;400 ℃退火后,薄膜的载流子浓度和迁移率均达到最大值,分别为1.9×10 19 cm -3和4.2 cm 2·V -1·s -1,之后随着退火温度进一步升高,载流子浓度和迁移率降低;退火温度由300 ℃升高到600 ℃过程中薄膜的吸收边先蓝移后红移。
材料 光学性能 电学性能 铝掺杂氧化锌薄膜 退火 原子层沉积技术 
中国激光
2019, 46(4): 0403002

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