随着彩膜产线几年的运营, 预烘烤工艺升华物带来严重的设备和玻璃基板污染, 容易造成曝光工序失败, 导致成本浪费。为解决该问题, 本文针对8.5世代线红、绿、蓝三条生产线, 进行了预烘烤工艺升华物成分分析和改善。经分析, 升华物来源于光刻胶中单体和光引发剂, 通过将分子量在190~300之间的小分子结构的单体和光引发剂替换成分子量在380~600之间的大分子结构, 得到改善型光刻胶, 成功将红、绿、蓝3种光刻胶热升华物降低了91.8%,98.5%,931%。改善型光刻胶制成的产品光学、信赖性均满足要求, 导入量产后, 预烘烤升华物导致的玻璃基板曝光工序失败率由3 500×10-6降低为1 600×10-6。在此研究过程中, 提出了一种红绿蓝光刻胶材料预烘烤升华物量化评价指标, 可应用于后续光刻胶的开发和选用, 对产线长期稳定运营具有参考借鉴意义。

TFT-LCD面板在屏幕上有斑点或波浪状Mura, 影响液晶显示器的品质, 经过图形匹配, 缺陷与曝光机机台形貌匹配。通过对异常区域特性分析, 发现异常区域的BM CD、BM 像素间距存在异常。对原因进行模型分析: 玻璃在曝光机基台上局部区域发生弯曲, 曝光距离变短, 致使BM PR受光区域变小, BM CD会偏小, 进而导致区域性透过光不均一产生Mura; 玻璃弯曲后BM 像素间距相对于设计位置也会发生变化, 从而导致漏光产生Mura。经过实验验证, BM CD和像素间距的偏差主要由机台凸起导致glass弯曲引起, 可以通过降低吸附压力和研磨机台, 来改善CD差异和像素间距偏移, 同时像素间距偏移漏光, 也可以通过增加CD来改善。最终通过BM CD增加、研磨机台和降低吸附压力措施, Stage Mura不良率由10.05%下降至0.11%。