作者单位
摘要
1 北京科技大学 新材料技术研究院,北京 100083
2 郑州航空工业管理学院 河南省航空材料与应用技术重点实验室,河南 郑州 450046
3 天津津航物理技术研究所,天津 300308
稀土掺杂可以有效地改变基体材料的结构并提高使用性能。利用磁控溅射法在单晶硅和多晶CVD金刚石上分别制备了未掺杂及La掺杂的Y2O3薄膜,研究了La掺杂氧化钇(Y2O3)增透薄膜的组成、结构及性能。X射线光电子能谱(XPS)和掠入射X射线(GIXRD)研究表明,金属La与O相互作用,以La-O化合物形式存在于Y2O3薄膜中,未掺杂的Y2O3薄膜呈现立方(222)面柱状晶体取向,随着La掺杂功率的增加,开始出现新的单斜Y2O3相(111)晶面。从扫描电镜(SEM)观察到不同La掺杂功率下Y2O3薄膜呈现柱状晶结构,结晶质量较好。由原子力显微镜(AFM)证实,与未掺杂的Y2O3薄膜相比,La掺杂的Y2O3薄膜具有较低的粗糙度(RMS)值。在La掺杂的Y2O3薄膜中,随着La浓度的增加,柱状晶的晶粒尺寸显著减小。在8~12 μm的长波红外范围内,La掺杂后的Y2O3/金刚石薄膜最大透过率为80.3%,与CVD金刚石相比,透过率提高19.8%。颗粒细小的La掺杂Y2O3薄膜具有较高的硬度和弹性模量,硬度由未掺杂(12.02±0.37) GPa增加到(14.14±0.39) GPa,弹性模量由(187±14) GPa 增加到(198±7.5) GPa。结果表明,与未掺杂Y2O3薄膜相比,La掺杂的Y2O3薄膜在保持较高红外透过率条件下,通过细晶强化获得了更高的硬度,有利于提升砂蚀、雨蚀等冲刷性能。
CVD 金刚石 Y2O3增透膜 La掺杂 透过率 CVD diamond Y2O3 anti-reflection film La doping transmittance 
红外与激光工程
2023, 52(12): 20230240
作者单位
摘要
1 中材人工晶体研究院有限公司,北京100018
2 中材人工晶体研究院(山东)有限公司,济南250200
3 中材高新材料股份有限公司,北京100102
自1963年参研“121”项目合成国内第一颗金刚石至今,从两面顶高温高压合成金刚石、金刚石工具到化学气相沉积金刚石,中材人工晶体研究院有限公司(简称晶体院)走过了六十年艰难而辉煌的金刚石研究历程。在一代又一代研究人员的努力下,通过技术研发有力推动了我国金刚石制备及工具应用技术的进步,为我国金刚石行业的蓬勃发展做出贡献。回看晶体院金刚石六十年研发历程,本文由点带面,期望在科技研发攻关、技术成果转化、发展思维等方面为新时代金刚石领域工作者提供启示与借鉴。
人造金刚石 超硬材料 CVD金刚石 金刚石工具 两面顶 synthetic diamond superhard material CVD diamond diamond tool belt press 
人工晶体学报
2023, 52(12): 2094
杨旖秋 1,2,*韩晓桐 2胡秀飞 1,2李斌 1,2[ ... ]冯志红 4,5
作者单位
摘要
1 山东大学新一代半导体材料研究院, 济南 250100
2 山东大学晶体材料国家重点实验室, 济南 250100
3 济南金刚石科技有限公司, 济南 250100
4 专用集成电路国家级重点实验室, 石家庄 050051
5 中国电子科技集团公司第十三研究所, 石家庄 050051
本文通过高分辨X射线衍射(HRXRD)、激光拉曼光谱(Raman)、晶格畸变检测等测试分析方法对多组高温高压(HTHP) Ⅰb、HTHP Ⅱa和化学气相沉积(CVD)型(100)面金刚石单晶样品进行对比研究。HRXRD和Raman的检测结果均表明HTHP Ⅱa型金刚石单晶的结晶质量接近天然金刚石, 其XRD摇摆曲线半峰全宽和Raman半峰全宽分别为0.015°~0.018° 和1.45~1.85 cm-1。晶格畸变检测仪的检测结果表明, HTHP Ⅱa型金刚石单晶的应力分布主要有两种: 一种几乎无明显应力分布, 另一种沿<110>方向呈对称的放射状分布, 其他区域无晶格畸变。HTHP Ⅰb和CVD型金刚石单晶应力分布均相对分散, 晶格畸变复杂, 与其HRXRD和Raman的检测结果相符。进一步利用等离子体刻蚀法对三种类型金刚石单晶(100)面位错缺陷进行对比分析, 结果表明, HTHP Ⅱa型金刚石位错密度为三者中最低, 仅为1×103 cm-2。本研究为制备高质量大尺寸CVD金刚石单晶的衬底选择提供了实验依据。
HTHP Ⅱa金刚石 HTHP Ⅰb金刚石 CVD金刚石 结晶质量 应力 等离子体刻蚀 位错密度 HTHP Ⅱa diamond HTHP Ⅰb diamond CVD diamond crystal quality stress plasma etching dislocation density 
人工晶体学报
2022, 51(9-10): 1777
作者单位
摘要
1 江西应用技术职业学院资源环境与珠宝学院, 江西 赣州 341000
2 中国地质大学(武汉)珠宝学院, 湖北 武汉 430074
3 武汉大学工业科学研究院, 湖北 武汉 430072
4 滇西应用技术大学珠宝学院, 云南 腾冲 679100
目前CVD法合成单晶钻石是超硬材料科学和宝石学关注的热点之一, 该方法合成的单晶钻石常带有褐色调。 通常采用高温高压法(HPHT)提高褐色CVD钻石的色级和透明度, 在前期HPHT处理褐色CVD钻石实验基础上, 选出颜色改善明显的三颗样品, 对其处理前后谱学特征进行对比。 采用紫外-可见吸收光谱、 红外光谱、 光致发光光谱、 三维荧光光谱、 激光拉曼光谱以及X射线摇摆曲线进行分析。 结果表明, 褐色和深褐色样品褪色温度较高, 处理后样品紫外-可见吸收光谱吸收系数明显减小, 透明度明显提高。 样品中红外与近红外光谱显示, 在1 332 cm-1处的吸收峰与N+中心有关, 该中心是褐色CVD钻石常见特征。 在3 124 cm-1处吸收峰与NVH0缺陷中心有关, 该峰在CVD钻石和HPHT处理钻石中常见。 另外在2 700~3 200 cm-1范围变化的一组吸收峰, 与C—H键伸缩振动有关。 高温对CVD钻石含H基团影响较大, 在5~6 GPa压力下处理温度在1 500~1 700 ℃范围, 会在近红外波段4 673, 6 352, 7 354, 7 540, 7 804和8 535 cm-1出现一组吸收峰, 可指示样品经过较高温度处理。 目前针对CVD钻石以及经过HPHT处理的CVD钻石近红外波段的论述较少, 该研究可以为鉴定CVD钻石及HPHT处理CVD钻石提供依据。 综合光致发光光谱和三维荧光光谱分析, 处理后样品NV-缺陷比例减小, SiV-中心缺陷比例增加。 在5~6 GPa压力下, 仅当处理温度高于1 500 ℃时, 样品三维荧光光谱在λex/λem=500 nm/575 nm处荧光峰增强, 在λex/λem=490 nm/550 nm处荧光峰消失, 从某种意义上该峰位变化可指示样品经过较高温度处理。 物相分析结果显示, HPHT处理后CVD钻石在1 332 cm-1处拉曼位移半高宽和XRD摇摆曲线半高宽均减小, 表现出了较好的一致性, 说明经HPHT处理的褐色CVD钻石结晶质量变优。
褐色CVD钻石 高温高压处理 谱学特征 Brown CVD diamond High temperature high pressure processing Spectral characterstics 
光谱学与光谱分析
2022, 42(1): 258
安晓明 1,2,*葛新岗 1,2刘晓晨 1,2李义锋 1,2[ ... ]罗海瀚 3
作者单位
摘要
1 河北省激光研究所, 石家庄 050081
2 河北普莱斯曼金刚石科技有限公司, 石家庄 050081
3 中国科学院上海技术物理研究所, 上海 200080
本文研究制备了可应用于高功率CO2激光器的CVD金刚石窗口。首先使用环形天线-椭球谐振腔式MPCVD装置沉积制备直径2英寸(1英寸=2.54 cm)金刚石自支撑膜, 然后将膜片双面抛光, 激光切割成矩形基片, 再采用蒸镀法在基片表面制备中心波长在10.6 μm的增透膜, 最终制备得到金刚石光学窗口。采用傅里叶红外透射谱、热导仪、爆破试验台测试了金刚石基片镀膜前后的红外透过率、热导率和爆破强度。利用自行搭建的光学平台, 测试了CVD金刚石基片增透膜能承受的激光功率密度。结果显示CVD金刚石基片在10.6 μm处的透过率为70.9%, 利用光谱计算的吸收系数为0.06 cm-1, 热导率>19.5 W/(cm·K), 爆破强度>5.62 MPa, 镀膜后的透过率为99.2%, 增透膜可承受的激光功率密度>995 W/mm2。
CVD金刚石 增透膜 光学窗口 高功率CO2激光器 CVD diamond antireflective coating optical window high power CO2 laser 
人工晶体学报
2021, 50(6): 1010
作者单位
摘要
广东工业大学机电工程学院, 广东 广州 510006
采用光纤脉冲激光器对化学气相沉积金刚石薄膜进行了锥形微孔阵列加工,研究了激光扫描速度、扫描次数和脉冲宽度等参数对微孔形状和尺寸的影响规律。研究发现,激光扫描速度对微孔尺寸的影响不明显。而激光扫描次数对微孔出口直径影响明显。随着激光脉宽的增加,微孔深度和出口直径均增加,但微孔锥度减小。
激光技术 阵列锥形微孔 光纤激光 CVD金刚石薄膜 微细加工 
激光与光电子学进展
2016, 53(11): 111402
作者单位
摘要
1 南京航空航天大学 机电学院, 江苏 南京 210016
2 江苏省精密与微细制造技术重点实验室, 江苏 南京 210016
通过热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备了具有球状晶结构、棱锥形晶结构和棱柱形晶结构等3种不同表面特征的化学气相沉积(CVD)金刚石涂层工具, 以提高其研磨效率。通过正交实验法研究了金刚石涂层晶粒形态、载荷、工作台转速、研磨时间等4个工艺参数对蓝宝石材料去除率和表面粗糙度的影响。结果表明:金刚石涂层的晶粒形态对材料去除率和表面粗糙度影响较大; 球状晶结构金刚石涂层切向力较小, 棱柱形晶结构金刚石涂层切向力较大; 选择棱柱形晶CVD金刚石涂层工具研磨蓝宝石, 在研磨加工参数为载荷0.15 MPa、转速100 r/min、研磨时间3 min时, 其材料去除率为0.397 μm/min, 表面粗糙度为0.354 μm。结果表明:提出的CVD金刚石涂层工具可用于进一步加工、研磨蓝宝石切片, 去除其表面划痕, 从而改善工件表面质量。
化学气相沉积(CVD)金刚石涂层 研磨 蓝宝石 晶粒形态 Chemical Vapor Deposition(CVD) diamond coating lapping sapphire grain morphology 
光学 精密工程
2016, 24(3): 540
作者单位
摘要
武汉工程大学材料科学与工程学院, 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室, 湖北 武汉 430073
采用微波等离子体化学气相沉积方法(microwave plasma chemical vapor deposition, MPCVD)在高沉积气压(34.5 kPa)下制备多晶金刚石, 利用发射光谱(optical emission spectroscopy, OES)在线诊断了CH4/H2/O2等离子体内基团的谱线强度及其空间分布, 并利用拉曼(Raman)光谱评价了不同O2体积分数下沉积出的金刚石膜质量, 研究了金刚石膜质量的均匀性分布问题。 结果表明: 随着O2体积分数的增加, C2, CH及Hα基团的谱线强度均呈下降的趋势, 而C2, CH与Hα谱线强度比值也随之下降, 表明增加O2体积分数不仅导致等离子体中碳源基团的绝对浓度下降, 而且碳源基团相对于氢原子的相对浓度也降低, 使得金刚石的沉积速率下降而沉积质量提高。 此外, 具有刻蚀作用的OH基团的谱线强度却随着O2体积分数的增加而上升, 这也有利于降低金刚石膜中非晶碳的含量。 光谱空间诊断发现高沉积气压下等离子体内基团分布不均匀, 特别是中心区域C2基团聚集造成该区域内非晶碳含量增加, 最终导致金刚石膜质量分布的不均匀。
高气压微波等离子体 CVD金刚石膜 发射光谱 拉曼光谱 均匀性 High-pressure microwave plasma CVD diamond films Optical emission spectroscopy Raman spectroscopy Uniformity 
光谱学与光谱分析
2015, 35(11): 3007
作者单位
摘要
武汉工程大学 材料科学与工程学院, 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室, 武汉 430073
采用电子回旋共振(ECR)等离子体在不同的磁场位形和工作气压下刻蚀化学气相沉积(CVD)金刚石膜,运用双探针和离子灵敏探针法对等离子体进行了诊断,研究了等离子体参数对刻蚀效果的影响。结果表明: 磁场由发散场向收敛场转变时,离子温度、电子温度和等离子体密度都随之增大,刻蚀效果逐渐增强; 当工作气压由低气压向高气压变化时,等离子体参数先增大后减小,CVD金刚石膜表面粗糙度降低程度也出现了相同的趋势。
刻蚀 CVD金刚石 等离子体参数 ECR等离子体 etching CVD diamond plasma parameters ECR plasma 
强激光与粒子束
2014, 26(7): 074001
作者单位
摘要
武汉工程大学 材料科学与工程学院, 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室, 武汉 430073
利用Nd:YAG型金刚石精密激光切割机,采用激光轴向偏焦法对化学气相沉积(CVD)法制备的金刚石膜表面进行扫描式平整化处理,利用扫描电子显微镜(SEM)、粗糙度仪和金相显微镜对平整化后的金刚石表面进行表征,研究了激光充电电压和焦点位置对扫描凹槽宽度和深度的影响,以及扫描间距对平整化效果的影响。研究结果表明:扫描凹槽宽度随激光充电电压的升高而增大;凹槽深度随激光充电电压的升高而增大,随偏焦量的增大而增大。激光轴向偏焦法对CVD金刚石膜进行平整化处理后,其粗糙度显著减小,利用氢等离子体对其表面进行刻蚀处理,能够有效去除表层石墨,从而达到理想的平整化效果。
激光 轴向偏焦法 平整化 CVD金刚石膜 laser axial offset-focus flatting CVD diamond film 
强激光与粒子束
2013, 25(8): 1916

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