上海交通大学 电子信息与电气工程学院先进电子材料与器件平台,上海 200240
开发了一种和MEMS工艺兼容的基于硅微加工技术的简易硅微透镜阵列制造技术。利用光刻胶热熔法和等离子体刻蚀法相结合的方法,实现了在硅晶圆上制作不同尺寸的硅微透镜阵列的工艺过程。实验中,对透镜制作过程中的热熔工艺、刻蚀工艺进行了深入的研究。最终确定了最优的工艺参数,制备了孔径在20~90 μm、表面质量高的硅微透镜阵列。
硅微透镜阵列 光刻胶热熔法 电感耦合等离子体刻蚀 刻蚀缺陷 silicon microlens array photoresist hot melt method ICP-RIE etch defect
Author Affiliations
Abstract
1 Key Laboratory of Weak-Light Nonlinear Photonics, Ministry of Education, School of Physics and TEDA Applied Physics Institute, Nankai University, Tianjin 300071, China
2 Science and Technology on Electro-Optical Information Security Control Laboratory, Tianjin 300308, China
3 Collaborative Innovation Center of Extreme Optics, Shanxi University, Taiyuan 030006, China
Lithium niobate (LN) metasurfaces have emerged as a new platform for manipulating electromagnetic waves. Here, we report a fabrication technique for LN nano-grating metasurfaces by combining focused ion beam (FIB) milling with inductively coupled plasma reactive ion etching (ICP-RIE). Steep sidewalls with angles larger than 80° are achieved. Sharp quasi-bound states in the continuum are observed from our metasurfaces. The measured transmission spectra show good agreement with the numerical simulations, confirming the high quality of the fabricated metasurfaces. Our technique can be applied to fabricate the LN metasurfaces with sharp resonances for various applications in optical communications, on-chip photonics, laser physics, sensing, and so on.
lithium niobate metasurfaces fabrication FIB ICP-RIE Chinese Optics Letters
2022, 20(11): 113602
1 中国科学院上海技术物理研究所 红外成像材料与器件重点实验室, 上海 200083
2 中国科学院大学, 北京 100039
针对现有微透镜加工方法难以在红外探测器衬底材料CdZnTe上实现大孔径、深浮雕微透镜制备, 提出了一种利用ICP-RIE干法刻蚀结合化学湿法腐蚀制备折射微透镜的方法, 通过采用多次光刻套刻后分别对CdZnTe材料进行高刻蚀速率、低损伤的ICP-RIE刻蚀, 制备出具有深浮雕结构的微透镜雏形, 最后采用溴-乙醇溶液腐蚀成形, 成功在CdZnTe衬底上制备了深度达60μm的连续深浮雕结构的微透镜线列, 并对该微透镜的面形轮廓和光学性能进行了测试分析, 在红外探测器的微光学元件领域有着巨大的应用前景。
红外探测器 深浮雕 微透镜 CdZnTe CdZnTe infrared detectors deep relief micro-lens ICP-RIE ICP-RIE
