1 季华实验室, 广东 佛山 528000
2 佛山科学技术学院, 广东 佛山 528000
3 沈阳芯源微电子设备股份有限公司, 辽宁 沈阳 110168
为缩短12寸晶圆检测成像系统的轴向和径向尺寸,提出一种小角度棱镜折转光路与超短物像距镜头相结合的解决方法。设计优于1/12λ(λ=632.8 nm)面形精度的小角度棱镜折转光路,实现照明系统与成像镜头的水平布置,径向尺寸仅为80 mm,在保证不影响系统成像质量的前提下,极大地降低了整个系统的径向尺寸,同时也实现了12°的小角度明场照明。设计放大倍率为0.264的对称混合型光学系统,采用纯球面系统获得较大成像视场,像高为81.92 mm,物像距仅为392.5 mm,极大地降低了整个系统轴向尺寸。设计结果表明,整个成像系统全视场平均光学传递函数优于0.4@100l p/mm,相对畸变优于0.03%,像面照度均匀性全视场优于50%。实际测试结果表明:全视场实际成像分辨率优于18.88 μm,达到了系统极限分辨率;全视场像面照度均匀性为43.3%,满足均匀性优于40%的研制要求。研究结果表明本文提出的超薄超短物像距高分辨率检测成像系统合理、有效,解决了12寸晶圆检测成像系统空间尺寸压缩的难题,并降低了研制成本,为后续近距离大尺寸物体检测成像系统的研制提供参考依据。
棱镜 物像距 对称混合型光学系统 像面照度均匀性 prism object-image distance symmetric hybrid optical system image surface illumination uniformity
1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室,上海 201800
2 中国科学院大学,北京 100049
针对光刻机照明系统矩形光场的均匀照明需求,提出了一种基于单排平凸微柱面镜阵列与小长宽比积分棒相结合的匀光单元方案。分析了小长宽比积分棒输入光场的角度分布特性和宽度对照明均匀性的影响。使用单排平凸微柱面镜阵列进行预匀光可以满足积分棒输入光场需求。采用光线方向余弦的分布偏差表征照明均匀性,构造了匀光单元透镜组的均匀性评价函数,并以KrF光刻机匀光单元为对象,利用CODE V软件对平凸微柱面镜和聚光镜组进行了自动优化设计。在LightTools中对该匀光单元进行仿真验证,结果表明,在不同部分相干因子的传统照明模式和环形照明模式下输出光场的积分非均匀性均小于0.43%,优于基于弥散斑均方根评价函数优化设计的对照组结果,对相关工程设计有一定参考意义。
光学设计 光刻 照明系统 匀光单元 照明均匀性 中国激光
2023, 50(13): 1305003
1 中国科学院上海光学精密机械研究所 信息光学与光电技术实验室,上海 201800
2 中国科学院大学,北京 100049
提出了一种快速计算光学系统像面照度均匀性的算法,通过近似算法计算系统数值孔径,并利用出射光瞳数值孔径表征像面照度。利用该算法计算光场不均匀性,将其作为自动优化过程中的评价函数之一,优化设计光刻机照明系统中继镜组。通过Light tools软件对设计的中继镜组进行仿真验证,结果表明不同相干因子照明下掩膜面上的光场不均匀性均小于0.5%。通过实验测试了设计的中继镜组的积分均匀性,结果表明各相干因子下,光场不均匀性小于1.21%,能够满足掩膜面上光场不均匀性的指标需求(< 1.5%),验证了该快速评估算法可有效应用于中继镜组优化设计中。
光刻 照明系统 光学设计 中继镜组 光场均匀性 Lithography Illumination system Optical design Relay lens Illumination uniformity
红外与激光工程
2021, 50(12): 20210745
1 南京工业大学 1. 材料科学与工程学院, 南京 211816
2 南京工业大学
3 2. 电光源材料研究所, 南京 210009
4 3. 轻工业部南京电光源材料科学研究所, 南京 210015
5 南京工业大学 4. 江苏长晶科技有限公司, 南京 211800
基于Taguchi实验方法和Tracepro仿真软件, 研究了Mini LED背光模组中LED芯片大小、芯片发光半角、芯片出光面到液晶层的距离等因素, 对液晶面板照度均匀性的影响规律并对其进行了相应分析。研究结果表明: 芯片出光面到液晶层的距离对照度均匀性影响最大, 影响因素的权重占比达到82.88%; 发光半角占比14.33%: 芯片大小占比为14.33%。根据研究结果, 固定发光半角与芯片尺寸, 调节出光面与液晶面板层的距离, 得到了最优的照度均匀度。
背光模组 芯片大小 发光半角 照度均匀性 Mini LED Mini LED backlight module chip size luminous half angle illumination uniformity
南京中电熊猫平板显示科技有限公司, 江苏 南京 210046
在TFT制程中, 曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量。为了分析与解决曝光色差问题, 需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究。首先, 通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试验、数据分析等方法进行不良原因调查。同时, 借助开源软件GIMP和Fiji进行图像处理得到面板灰度数据, 对色差程度进行定量评价。然后, 通过调整曝光设备照度均一性与管控最优生产路径, 曝光色差发生率从10%以上降至1%以内, 有效改善面板显示品质。最后, 结合ExpertLCD光学模拟数据与电容耦合效应分析, 进一步阐述曝光色差的形成机理。研究发现, 像素电极临界尺寸应管控在一定范围并且需保证较好的均一性, 像素电极临界尺寸过小、过大都会使曝光色差更易显现。同时, 各导电层的临界尺寸也需保证较好的均一性, 以减小耦合电容对显示的影响。
曝光色差 图像处理 照度均一性 馈入电压 TFT TFT exposure Mura image processing illumination uniformity feedthrough voltage
红外与激光工程
2021, 50(1): 20200119
1 华南理工大学材料科学与工程学院, 广东 广州 510640
2 华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室, 广东 广州 510640
3 深圳信息职业技术学院智能制造与装备学院, 广东 深圳 518172
传统植物照明设计只优化某一参考面的均匀度,导致植物生长空间内的光环境不均一。为了解决该问题,对空间照明均匀度评价体系进行了研究。首先,提出了三种潜在的立体化高空间照明均匀度植物光源设计方案,并借助TracePro光学仿真软件研究了结构参数对照明效果的影响。进一步利用Taguchi方法优化实验过程,并结合ANOVA分析,获得了最佳方案的最优结构参数。然后,基于所得最优解,对植物生长过程中的照明效果进行了测试。最后,介绍了立体化光源系统相对传统阵列式LED光源的技术优势。实验结果表明:最优结构可提供一个均匀照明空间,该空间内的水平面照明均匀度和垂直面照明均匀度分别为92.00%和83.12%,并且两个空间参考平面上的红蓝光混色均匀度分别达到94.19%和90.70%。该植物光源系统可为植物提供其生长过程中所需的均匀空间照明环境。
光学设计 空间照明均匀度 Taguchi 植物光源 发光二极管(LED) 光学学报
2020, 40(18): 1822002