研究了3种微通道板基底羟基化的方法, 测量了羟基化处理后微通道板基底表面水接触角及通道端面的形貌变化, 分析了各种方法中微通道板基底的亲水性和腐蚀情况。实验结果表明: 氨水双氧水溶液对基体表面的亲水性能提升不大, NaOH溶液对基体有腐蚀作用, 经食人鱼溶液处理的基体表面亲水性明显提高且无腐蚀作用。研究了微通道板在食人鱼溶液中的浸泡时间和浸泡温度对表面亲水性的影响。结果表明: 随着浸泡温度的增加, 微通道板表面水接触角先减小后增大, 当温度为80℃时达到极小值, 浸泡时间对微通道板表面的亲水性影响不大。最终确定了微通道板表面羟基化工艺: 浸泡温度为80℃, 静置时间为20~60min。

为了提高HfO2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅（PCG）的抗激光损伤性能，使用Piranha溶液（浓硫酸和双氧水的混合液）清洗PCG去除其制作工艺和使用过程中残留在表面的污染物，包括CHF3作为工作气体对HfO2进行反应离子束刻蚀生成的碳氟化合物及金属氟化物。对Piranha溶液的清洗温度、组成成分、清洗时间、清洗遍数等参数进行了系统研究，用扫描电子显微镜（SEM）观察清洗前后的PCG表面形貌，用X射线光电子能谱仪（XPS）检测清洗前后PCG表面的元素成分及其原子分数的变化，并分析了各残留污染物的去除机理。实验结果表明：Piranha溶液能有效去除PCG表面污染物，而且清洗温度越高，清洗遍数越多，对PCG表面残留污染物的去除效果越显著。在90 ℃下60 min有效活性时间内，使用浓硫酸和双氧水体积比为2∶1的Piranha溶液清洗3遍以上，PCG表面残留的F元素的原子分数接近0.1%（XPS的分辨极限），达到良好的清洗效果。