研究了等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺参数对SiNx及SiOxNy防潮能力的影响, 并测试了SiNx/SiOxNy叠层薄膜的水汽渗透速率(WVTR)。实验结果表明: 单层SiNx薄膜和SiOxNy薄膜都存在临界厚度, 当膜厚大于临界值时, 继续增大厚度不会明显改善薄膜的WVTR。当沉积温度从50℃提高到250℃, SiNx薄膜的WVTR从0.031g/(m2·day)降至0.010g/(m2·day)。SiOxNy沉积时, 增大N2O通入量对薄膜的WVTR影响不明显, 但可以有效改善薄膜的弯曲性能。最后, 4个SiNx/SiOxNy叠层膜的WVTR下降到了4.4×10-4g/(m2·day)。叠层膜防潮能力的显著提升归因于叠层结构可以有效解耦层与层之间的缺陷, 延长水汽渗透路径。

以自上向下热蒸发大型镀膜机为实验平台，开展了逆向蒸发制备大口径银反射镜研究.通过设计特殊蒸发舟及优化相关工艺参数，实现了金属银膜稳定、高速向下蒸发.根据逆向热蒸发工艺特点，选取熔点低、升华型材料Cr和SiO及特殊设计的蒸发舟，以Cr或CrNx为粘结层，SiOx或SiOxNy为保护层，制备了三种具有四层结构的介质保护性银反射膜，并对所制备反射镜样品的反射率、断面形貌和环境稳定性进行了表征.实验结果表明：膜系结构为3 nmCr/120 nmAg/0.6 nmCrNx/150 nmSiOxNy的银反射膜具有较好的环境稳定性和光谱特性;通过了24小时湿热实验（50℃/相对湿度98%）和盐雾实验，在400～1 800 nm波段光谱范围内，银反射膜的平均反射率达到97.8%.

利用SiOxNy薄膜光学常数随化学计量比连续变化的特性,给出了制备折射率连续可调的SiOxNy薄膜的实验条件。用磁控反应溅射法制备了不同氮氧比的SiOxNy薄膜。研究了不同气流比率条件下薄膜光学常数、化学成分及溅射速率等的变化。用UV-VIS光谱仪测试了透射率曲线,利用改进的单纯型法拟合透射率曲线计算得到了折射率和消光系数。测试了红外傅立叶光谱（FTIR）曲线和X光光电子能谱（XPS）分析了薄膜成分的变化。实验表明薄膜特性与N2/O2流量比率密切相关,通过控制总压和改变气体流量比可控制SiOxNy薄膜的折射率n从1.92到1.46连续变化,应用Wemple-DiDomenico模型计算出光子带隙在6.5 eV到5 eV之间单调变化。