作者单位
摘要
1 南京邮电大学光电工程学院, 江苏 南京 210023
2 南京邮电大学Peter Grünberg研究中心, 江苏 南京 210023
ZnO单晶材料以其优良的综合性能在光电子器件方面掀起了研究热潮, 因此对ZnO单晶的研究具有重要的理论和实践意义。 采用激光辐照的方式, 对ZnO单晶进行了光致发光(photoluminescence, PL)光谱实验, 分析研究了ZnO单晶在不同温度(低温)和不同激光能量强度照射下其光致发光特性。 研究结果表明, ZnO单晶内存在少量杂质及表面氧缺陷, 这些结构对其发光特性有一定的影响; 在低温条件下, ZnO单晶具有良好的发光特性, 且随着温度的提高, 发光光谱峰的位置会向长波长方向移动, 但强度会减小; 当激光光源的强度增大, ZnO单晶的PL发射光谱的强度也会随之增大, 且峰的位置和相对强度不变。 结合拉曼(Raman)光谱实验, 从分子及原子振动、 转动类型验证了纤锌矿ZnO单晶的六方晶系结构; 配合X射线衍射(X-ray diffraction, XRD)技术, 得出ZnO单晶良好的结晶特性以及晶轴取向。
ZnO单晶 Raman光谱 PL光谱 ZnO single crystal Raman spectrum XRD XRD PL spectrum 
光谱学与光谱分析
2017, 37(6): 1700
作者单位
摘要
1 西昌卫星发射中心,四川 西昌 615000
2 中山大学理工学院 光电材料与技术国家重点实验室,广东 广州 510000
3 中国科学院 深圳先进技术研究院,广东 深圳 518055
4 香港科技大学 物理系,香港 999077
用分子束外延(MBE)的方法在c面蓝宝石衬底上生长出了高质量的ZnO单晶薄膜和BexZn1-xO合金薄膜。X射线光电子能谱(XPS)测试结果表明,合金材料中Be元素的摩尔分数分别为1.8%、4.9%、8.0%和15.3%。在此基础上制备了ZnO基和BexZn1-xO基的金属-半导体-金属(MSM)结构紫外探测器。ZnO单晶探测器的响应波长为375 nm,在1 V电压下,350 nm处的光响应度高达43 A/W,光电流和暗电流之比达到105量级。在BexZn1-xO基紫外探测器中,其截止响应波长随着合金中Be含量的增加逐渐蓝移,其中Be0.153-Zn0.847O合金探测器的截止响应波长为366 nm,紫外波段和可见波段的光电流之比达到2~3个数量级,具有良好的信噪比。此外,提出了氧气等离子体表面处理降低探测器暗电流的方法,并使ZnO单晶探测器的暗电流降低了4个数量级。
ZnO单晶 BexZn1-xO合金 紫外探测器 表面处理 分子束外延 ZnO single crystal BexZn1-xO alloy ultraviolet detector surface treatment MBE 
发光学报
2015, 36(11): 1233
作者单位
摘要
北京工业大学激光工程研究院, 北京 100124
通过结合纳米压痕和偏振拉曼散射技术对压应力影响下ZnO单晶晶格出现的变化进行了研究。位错的滑移是导致ZnO单晶中出现多处塑性变形的原因而非相变。之后采用偏振拉曼Mapping成像技术以E2(high)模为对象, 监视其在整个压痕区内的强度变化分布。在压痕区中心累积的应力通过位错的滑移而释放, 同时导致压痕区中心处的晶格畸变程度最为严重。伴随着晶格失配的加剧, 拉曼选择定则放宽, 在Z(XX)配置下较弱的LO得到增强, 原本非拉曼活性的B1(high)模出现。此外, 在Z(XY)偏振下压痕区左侧的拉曼光谱中观察到位于130 cm-1处的拉曼异常振动模。此峰的出现可能与压痕区左侧由刃位错所形成的应力场吸引间隙离子导致的晶格畸变有关。
ZnO单晶 塑性形变 纳米压痕 偏振拉曼散射 ZnO single crystal plastic deformation nanoindentation polarized Raman scattering 
光散射学报
2012, 24(4): 361
作者单位
摘要
1 School of Electronic Information and Control Engineering, Beijing University of Technology, Beijing 100022, China
2 Department of Computer and Electrical Engneering, Rutgers University, Piscataway, NJ 08854, USA
ZnO single crystal film metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) photoresponse antireflection coating (AR coating) RF sputter damage 
Frontiers of Optoelectronics
2008, 1(3): 309

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