为了研究准确性和效率更高的膜层光学薄膜参数测量方法，对优化膜系结构和改进制备工艺都有重要的指导作用。论文在研究传统测量方法基础上，将包络线法与全光谱拟合反演法相结合，提出了一种新型的光学薄膜参数测量方法。该方法将采用包络线法计算的单层膜光学薄膜参数近似值作为参考，设置全光谱拟合反演法优化搜索的上下限，结合适当的评价函数构建计算物理模型，并选用综合优化算法求解获得待测膜系各膜层的光学薄膜参数。最后设计TiO2、SiO2单层膜和膜系为：G|0.5HLHL0.5H|A(H-TiO2，L-SiO2)的多层膜进行测量验证，并分析了该测量方法的效率、准确度、稳定性等。

为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外-紫外波段(DUV-UV)的光学常数, 研究了深紫外-紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料, 分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了3种高折射率材料薄膜LaF3,NdF3,GdF3和3种低折射率材料薄膜MgF2,AlF3,Na3AlF6；用商用Lambda900光谱仪测量了它们在190～500 nm范围的透射率光谱曲线；用包络法和迭代算法相结合研究了它们的折射率和消光系数, 由柯西色散公式和指数色散公式对得到的离散折射率和消光系数的值用最小二乘法进行曲线拟合, 得到了6种薄膜材料在所测波段内的折射率和消光系数的色散公式和色散曲线。所得结果与文献报道的MgF2和LaF3的结果相一致, 证明了结果的可靠性。

采用二步阳极氧化法在草酸溶液中制备了多孔阳极氧化铝(PAA)薄膜。借助于扫描电子显微镜(SEM)分析了多孔阳极氧化铝薄膜的微观形貌。结果发现，在其表面孔径为30～40nm的六边形孔洞分布均匀，且垂直于表面平行生长。依据PAA透射光谱的实验数据，采用极值包络线算法计算出了PAA薄膜的复折射率以及光学能隙等光学常数。通过分析吸收系数与入射光子能量之间的关系发现，PAA薄膜具有直接带隙半导体的电子结构特征，而且由理论计算得到的PAA的带隙能与其光致发光谱的峰位能是一致的。