作者单位
摘要
中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所, 四川 绵阳 621900
采用基于稀疏矩阵的大规模非负最小二乘法,对大口径、微浮雕结构光学元件加工中的驻留时间进行了分析与求解,并对该算法开展了正则化研究。仿真结果表明: 与传统非负最小二乘法相比,基于稀疏矩阵的大规模非负最小二乘法精度高、效率快。采用该算法仿真加工平均振幅为1.177 6倍波长的大口径、微浮雕结构光学元件,误差面形均方根收敛至0.067倍波长。
计算机控制光学表面成形 驻留时间 大规模非负最小二乘法 正则化 面形精度 computer controlled optical surfacing dwell time large-scale non-negative least-squares method regularization surface precisi 
强激光与粒子束
2011, 23(12): 3207

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