1 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心,四川 绵阳 621900
2 西华师范大学 物理与电子信息学院,四川 南充 637900
研究了在硫酸甲醇体系中进行电解抛光制备状态方程(EOS)靶用钨薄膜。分析了钨的阳极极化曲线,对薄膜的表面形貌、晶粒取向、密度和厚度一致性进行了测试和分析,并制备出均方根粗糙度小于50 nm、厚度一致性好于99%、能够保持原材料密度的钨箔膜,满足激光驱动材料高温高压状态方程研究的标准靶材料的需求,证明电解抛光是制备低表面粗糙度、块材密度的EOS所用金属箔材的有效手段。
电解抛光 钨箔膜 粗糙度 厚度一致性 electropolishing tungsten foil surface roughness thickness uniformity
