作者单位
摘要
西安电子科技大学 电子装备结构设计教育部重点实验室, 陕西 西安 710071
针对奇台110 m口径射电望远镜高指向精确度特点, 在现有天线指向模型的基础上, 推导了轨道误差源(轨道不平度)对指向精确度影响的关系模型。基于功率谱函数傅里叶级数系数归并法, 建立了天线轨道不平度数学模型。针对国外某完全焊接式50 m天线, 轨道水平度测量数据, 通过实验数值仿真, 采用查表法补偿轨道不平度造成的天线指向误差, 使俯仰角误差精确度提高了1.5″, 对高指向精确度天线实现的研究提供了有力支持。
轨道不平度 指向精确度 指向模型 射电望远镜 track flatness pointing accuracy pointing model radio telescope 
太赫兹科学与电子信息学报
2017, 15(4): 634
作者单位
摘要
1 军械工程学院 光学与电子工程系,河北 石家庄050003
2 中国人民解放军 96166部队,广东 韶关512151
3 裕东房管所,河北 石家庄050011
4 军械工程学院 基础部,河北 石家庄050003
车辆载体的随机振动影响摄像系统的成像质量,后续系统诸如目标跟踪和侦察预警系统的精度和稳定性。通过分析随机振动的特点及其产生的原因,可知随机振动受路面不平度、车辆载体类型和载体运动速度等因素的影响。根据采集的实际动态图像序列,分析摄像系统在不同影响因素下随机振动的特点。实验结果表明,车辆载体运动引起的图像帧间模糊和帧内模糊必须分别进行处理,电子稳像系统和算法应根据具体应用场景和实际系统要求进行选取。
车辆载体 电子稳像 摄像系统 随机振动 路面不平度 vehicle-borne electronic image stabilization camera system random vibration roughness 
光学仪器
2011, 33(2): 19
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室, 上海 201800
2 中国科学院研究生院, 北京 100039
提出一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术。在晶圆与承片台存在不同偏移量时,利用线性差分传感器在线测量晶圆上不同点的局部高度;通过建立临时边界条件,以递推法消除晶圆面形影响,并逐行计算出承片台的相对不平度;通过逐行计算的结果递推相邻行之间的高度差,并将该高度差叠加到每一行,以消除临时边界条件的限制,得到处于同一高度上的承片台不平度;将计算的结果作为初始值,根据最小二乘原理,以邻近的四个测量点作为参考,逐步逼近得到承片台的真实不平度。计算机仿真结果验证了该检测方法的正确性,计算结果逐步收敛并逼近真实值.实验结果表明,该方法的计算结果较好地表示了承片台的真实不平度,重复精度优于0.3 nm;同时该方法也可用于晶圆表面面形的测量。
测量与计量 不平度检测 承片台 调平调焦 最小二乘 光刻机 
光学学报
2007, 27(7): 1205
何乐 1,2,*王向朝 1马明英 1,2
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室, 上海 201800
2 中国科学院研究生院, 北京 100039
提出一种新的步进扫描投影光刻机工件台方镜不平度测量方法。以方镜平移补偿量与旋转补偿量为测量目标,使用两个双频激光干涉仪分别测量工件台在x和y方向的位置和旋转量;将方镜不平度的测量按照一定的偏移量分成若干个序列,每一个序列包括对方镜有效区域的若干次往返测量;根据所有序列的测量结果计算出方镜的旋转补偿量;为每一个序列建立临时边界条件,并据此计算出每一序列所测得的方镜粗略平移补偿量;采用三次样条插值与最小二乘法建立每一个序列间的关系,以平滑连接所有测量序列得到精确的方镜平移补偿量。结果表明,该方法用于测量方镜平移补偿量,测量重复精度优于2.957 nm,测量旋转补偿量,测量重复精度优于0.102 μrad。
测量 干涉测量 不平度 方镜 工件台 光刻机 
中国激光
2007, 34(4): 519
作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学实验室,上海 201800
2 中国科学院研究生院,北京 100039
随着光刻特征尺寸的不断减小,硅片表面不平度对光刻性能的影响越来越显著.该文提出了一种新的硅片表面不平度的原位检测技术本文在分析特殊测试标记成像规律的基础上,讨论了测试标记的对准位置偏移量与硅片表面起伏高度的变化规律,提出了一种新的硅片表面不平度原位检测技术.实验表明,该技术可实现硅片表面不平度及硅片表面形貌的高准确度原位测量.该技术考虑了光刻机承片台吸附力的非均匀性对硅片表面不平度的影响,更真实反映曝光工作状态下的硅片表面不平度大小.与现有的原位检测方法相比,硅片表面不平度的测量空间分辨率提高了1.67%倍,可实现硅片表面形貌的原位检测.
硅片表面不平度 FOCAL技术 光刻机 原位检测 Wafer flatness FOCAL technique Optical microlithography In-situ measurement 
光子学报
2006, 35(12): 1975

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