华中科技大学,光电子工程系,湖北,武汉,430074
基于MEMS技术体硅工艺,提出一种新型大有效面积的连续变形反射镜的设计制造方法.依工艺流程中的实际情况与结果,分析了在制造过程中遇到的大面积腔体深腐蚀中凸角腐蚀和键合中小空隙粘合等关键问题,设计实施了T形补偿角、延长驱动线等解决方案.用此方法制造出有效反射面积30mm(30mm,最大变形量1.2μm,49驱动电极的新型变形反射镜.10-200V电压范围内得到的该变形反射镜镜面变形数据与模拟结果具有很好的一致性.
变形反射镜 微电子机械系统 体硅工艺 凸角补偿
1 中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130033
2 吉林大学,吉林,长春,130021
从高斯光束的传输理论出发,对8×8 MOEMS阵列光开关的光路进行了分析.这种光开关的反射镜尺寸与插入损耗(简称插损)密切相关.为了降低插损并且达到准直长度的要求,对相关参数进行了优化选择.此外,开关中光纤、球透镜以及微反射镜之间的位置及角度偏移均会使插损大大增加,采用自对准技术和凸角补偿方法可以有效提高各个器件之间的对准效果,降低插损[1].
光开关 插损 凸角补偿 球透镜 MOEMS
1 华中科技大学 光电子工程系,湖北,武汉,430074
2 北京大学 微电子学研究所,微米/纳米加工技术国家重点实验室,北京,100871
给出了一种基于硅微加工技术的新型变形反射镜的设计和加工方法.变形反射镜镜面主体是由一定厚度的硅膜构成,硅膜上表面溅射有一层Ti/Au,背面有一7×7阵列的台柱与之相连,台柱下方是对应的驱动电极.当给电极施加电压时,产生的静电力就会拉动台柱向下运动,从而使相应的镜面部分发生变形;通过控制通电电极的位置及电压,就可获得特定的镜面形状.在变形反射镜的加工工序中采用浅腐蚀形成键合台,采用深腐蚀加工出台柱.并采用<110>条补偿图形对台柱的凸角进行补偿,在0.2MPa气压下进行键合,最后成功研制出有效反射面积为30mm×30mm,拥有49个静电驱动单元的变形反射镜.
变形反射镜 体微加工 静电驱动 凸角补偿 阳极键合 Deformable mirror Bulk micromachining Electrostatic actuating Corner compensation Anodic bonding
