作者单位
摘要
1 中国科学院上海光学精密机械研究所精密光学制造与检测中心,上海 201800
2 中国科学院大学材料科学与光电技术学院,北京 100049
大气等离子体刻蚀是一种非接触式、材料去除可控的加工方法,在光学元件的高精度加工中具有广泛的应用前景。但是大气等离子体刻蚀后元件存在表面形貌恶化的问题,严重影响元件的性能和使用寿命。进行氢氟酸刻蚀实验,证明了元件表面形貌的恶化是由氟碳化合物和表面凹坑微结构两个原因引起的。为了解释表面凹坑微结构的形成,提出基于micro-mask壁面反射增强理论的凹坑形成模型,并开展了样品表面旋涂金纳米颗粒充当micro-mask的刻蚀实验。实验结果验证了micro-mask壁面反射增强模型的正确性,为解决大气等离子体刻蚀后元件表面形貌恶化问题提供了新的思路和方法。
壁面反射增强 熔石英 表面形貌 形成机理 大气等离子体 
光学学报
2023, 43(21): 2124002
作者单位
摘要
昆明物理研究所,云南 昆明 650223
液相外延是碲镉汞(MCT)薄膜生长领域最成熟的一种方法,被众多红外探测器研究机构和生产商所采用。然而由于MCT材料自身属性和具体制备工艺的原因,液相外延生长过程中不可避免地会产生各种缺陷,从而降低红外探测器的性能。为了增加对液相外延MCT薄膜中缺陷的认识,并对具体的生长工艺提供指导性建议,基于已报道的文献总结了液相外延MCT薄膜中所存在一些缺陷的特征以及形成机理和消除方法。对各类缺陷的形成机理和消除方法进行探讨和评估,有助于提高MCT薄膜液相外延的水平,为制造高性能MCT探测器做好材料技术支撑。
碲镉汞材料 液相外延 缺陷形成机理 缺陷消除方法 mercury cadmium telluride liquid-phase epitaxy formation mechanism of defects defects elimination methods 
红外与激光工程
2023, 52(7): 20220804
作者单位
摘要
1 宁夏大学省部共建煤炭高效利用与绿色化工国家重点实验室, 宁夏 银川 750021
2 华东理工大学洁净煤技术研究所, 上海 200237
碳烟主要是烃类燃料不完全燃烧生成的产物, 其对人类健康、 空气质量以及燃烧装置的使用寿命都会产生有害影响。 碳烟生成是一个复杂的物理化学过程, 控制碳烟排放, 需要克服碳烟生成和燃烧过程中物理和化学演化的巨大差异, 这些差异表现为对碳烟纳观结构和表面官能团随碳烟氧化活性反应变化的深入探索研究。 近些年, 研究人员对碳烟的生成机理开展了系列研究, 对碳烟生成各个物理化学反应阶段有了一定认识。 结合光谱诊断技术可深入了解燃烧系统碳烟形成过程, 确定碳烟颗粒分子组成、 精细结构、 浓度分布等特征, 也可从碳烟结构变化、 黑体辐射强度等方面详细了解碳烟形成过程。 该文旨在阐述光谱诊断技术对烃类火焰碳烟表征的研究进展和发展趋势, 探讨LIBS, LII和LIF等作为诊断工具在包含背景辐射的火焰中检测碳烟生成过程产生辐射强度准确性等问题。 主要介绍了烃类火焰碳烟的形成机理(从前驱体产生、 生长到颗粒生成、 凝聚, 最后进行颗粒氧化)。 总结了探测碳烟性质光谱诊断方法的应用以及光谱诊断技术对燃烧过程中碳烟表征的研究现状, 包括对碳烟体积分数、 温度和基于图像处理的碳烟结构表征, 反应碳烟前驱体(多环芳烃)、 反应气氛、 温度等对碳烟颗粒物生成的影响。 最后, 对光谱诊断方法在碳烟中的应用进行展望。 未来光谱诊断方法将会呈现对碳烟生成化学反应机理进行更细致准确的研究、 降低不均匀碳烟对火焰图像造成影响、 优化光谱诊断测量方法对火焰中多种气体组分及生成碳烟浓度进行同时采集和实时在线监测等发展趋势。 光谱诊断方法和图像分析在均相燃烧火焰碳烟中的分析将为推动清洁燃烧和为非均相流动领域研究提供思路并具有重要的科学指导意义。
烃类火焰 光谱诊断 碳烟 形成机理 Hydrocarbon flame Spectral diagnosis Soot Formation mechanism 
光谱学与光谱分析
2023, 43(1): 1
华紫辉 1,2,*吴波 1,2甘利华 3李慧 4,5王春儒 1,2
作者单位
摘要
1 北京分子科学国家研究中心, 中国科学院化学研究所分子纳米结构与纳米技术重点实验室, 北京 100190
2 中国科学院大学化学科学学院, 北京 100049
3 西南大学化学化工学院, 重庆 400715
4 北京福纳康生物技术有限公司, 北京 100085
5 赤峰福纳康生物技术有限公司, 内蒙古 赤峰 024000
富勒烯和金属富勒烯具有独特结构和新奇电子特性, 在生物医药、量子、信息等领域具有巨大的应用潜力。然而, 如何提高产量是金属富勒烯走向实际应用的一个必须解决的关键技术难题。要高产量、高选择性的合成金属富勒烯, 弄清形成机理、开发新的合成方法是必由之路。本工作聚焦于全面剖析富勒烯和金属富勒烯的形成机理, 为突破其产能瓶颈探明道路。一方面, 利用密度泛函理论计算和分子动力学模拟富勒烯的形成过程, 指导优化富勒烯的合成条件。另一方面, 精确控制金属富勒烯合成的惰性气体压力、电弧区组分以及原料组成等条件, 制备了一系列具有特定结构和功能的金属富勒烯, 发展了金属富勒烯的高效制备策略。最后, 还探究了金属富勒烯形成后的保护方法, 并取得了一定成效, 为将来金属富勒烯的产业化奠定了坚实基础。
富勒烯 金属富勒烯 形成机理 密度泛函理论 分子动力学模拟 fullerenes metallofullerenes formation mechanism density functional theory molecular dynamics simulation 
硅酸盐学报
2023, 51(2): 323
作者单位
摘要
1 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林 长春 130033
2 中国科学院大学,北京 100049
3 哈尔滨新光光电科技股份有限公司,黑龙江 哈尔滨 150028
4 长春理工大学 光电工程学院,吉林 长春 130022
光学元件常用脆性材料作为原材料,脆性材料加工过程中极易引入亚表面缺陷,亚表面缺陷对脆性材料的制造阶段和应用阶段均存在严重的危害。制造方面,亚表面缺陷影响工序的选择与衔接,易产生过加工、欠加工等问题,导致加工效率低下;应用方面,亚表面缺陷影响光学元件的成像质量、稳定性、使用寿命等关键技术参数。为了高效率、高质量地去除亚表面缺陷,全面表征和准确检测光学元件的亚表面缺陷至关重要。文中首先介绍了不同加工方式对应的亚表面缺陷形成机理与亚表面缺陷的表征方法研究现状;其次归纳总结了破坏性与非破坏性的亚表面缺陷检测方法,分别介绍了不同检测方法的原理、适用材料与加工阶段、优点与不足之处;并介绍了基于表面粗糙度、加工参数的亚表面缺陷预测方法;最后,对亚表面缺陷检测技术的发展趋势进行了展望。
光学元件 亚表面缺陷 缺陷形成机理 亚表面缺陷表征 破坏性检测方法 非破坏性检测方法 optical components subsurface damage damage formation mechanism subsurface damage characterization destructive testing methods non-destructive testing methods 
红外与激光工程
2022, 51(12): 20220572
作者单位
摘要
1 1. 中国科学院 上海硅酸盐研究所, 高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室, 上海 200050
2 2. 中国科学院大学, 材料科学与光电工程中心, 北京 100049
Si3N4-BN-SiC复合材料以其良好的力学性能和抗氧化性能而具有良好的工程应用前景。本研究以Si、Si3N4稀释剂、B4C和Y2O3为原料, 采用燃烧合成法成功制备了Si3N4-BN-SiC复合材料。通过Si、B4C和N2气之间的反应, 在Si3N4陶瓷中原位引入BN和SiC, 制备的Si3N4-BN-SiC复合材料由长棒状的β-Si3N4和空心球形复合材料组成。实验研究了空心球微结构的形成机理, 结果表明, 生成的SiC、BN颗粒及玻璃相覆盖在原料颗粒上, 当原料颗粒反应完全时, 形成空心球形微结构。并进一步研究了B4C含量对Si3N4-BN-SiC复合材料力学性能的影响。原位引入SiC和BN在一定程度上可以提高复合材料的力学性能。当B4C添加量为质量分数0~20%时, 获得了抗弯强度为28~144 MPa、断裂韧性为0.6~2.3 MPa·m 1/2, 杨氏模量为17.4~54.5 GPa, 孔隙率为37.7%~51.8%的Si3N4-BN-SiC复合材料。
燃烧合成 Si3N4-BN-SiC复合材料 原位引入 相组成 空心球 形成机理 combustion synthesis Si3N4-BN-SiC composites in situ introduction phase compositions hollow sphere formation mechanism 
无机材料学报
2022, 37(5): 574
作者单位
摘要
1 北京航空航天大学材料科学与工程学院, 北京 100191
2 江西省工业陶瓷工程技术研究中心, 萍乡 337022
3 江西工陶院精细陶瓷有限公司, 萍乡 337000
CsxWO3纳米棒因其优异的近红外吸收性能得到研究人员的广泛关注, 但目前水热法合成CsxWO3纳米棒存在易形成等轴状纳米颗粒, 或合成温度高, 需要后续处理等问题。本文以钨酸铵((NH4)6 W7O24·6H2O)、氯化铯(CsCl)、盐酸(HCl)和油胺(C18H37N)为原料, 在220 ℃水热反应24 h合成了直径和长度分别为10~20 nm和100~250 nm的Cs0.2WO3纳米棒。研究了溶剂、合成路径以及HCl对Cs0.2WO3纳米棒的物相和形貌的影响, 探讨了Cs0.2WO3纳米棒的形成机理, 测试了Cs0.2WO3纳米棒的红外吸收性能。结果表明: 过少和过量的HCl不利于合成Cs0.2WO3, 改变HCl和CsCl的加入顺序, 降低(NH4)6 W7O24·6H2O、CsCl和HCl间的反应速率, 有助于合成Cs0.2WO3纳米棒, 且Cs0.2WO3纳米棒的红外吸收性能优于等轴状纳米颗粒。
纳米棒 水热合成 红外吸收 形成机理 nanorod hydrothermal synthesis infrared absorption CsxWO3 CsxWO3 formation mechanism 
人工晶体学报
2021, 50(6): 1036
作者单位
摘要
1 长春工程学院机电工程学院, 吉林 长春 130022
2 吉林大学材料科学与工程学院, 吉林 长春 130022
采用脉冲激光器实现了TC4钛合金/6082铝合金的焊接, 并用有限元分析软件对接头温度分布及界面处热循环进行了数值计算。根据激光焊接小孔效应的特点以及钛合金与铝合金间热物理学性质的差异, 并以熔化焊熔池形成过程及异种金属液态界面间的相互作用形式为依据, 建立了熔池金属流动模型, 阐述了钛/铝异种金属焊接过程中液态金属的流动特点, 解释了界面的形成过程与机理, 分析了接头在不同热输入条件下的断裂模式。试验结果表明:在钛/铝激光焊接过程中, 熔池内复杂的液流及多种影响因素使得反应界面呈不规则形态, 同时也影响了脆性金属间化合物TiAl、TiAl2和TiAl3的分布。在不同的热输入条件下, 反应界面形态与脆性金属间化合物的分布会发生改变, 接头的断裂模式也会有所不同, 接头的抗拉强度会随热输入的增大而降低。
钛/铝脉冲激光焊 有限元分析 界面形成机理 熔池流动行为 金属间化合物 Ti/Al pulsed laser welding finite element analysis fluid flow intermetallic compounds fracture modes 
应用激光
2020, 40(5): 860
作者单位
摘要
1 西安理工大学电子工程系,西安 710048
2 西安电子科技大学微电子学院,西安 710071
利用水平热壁CVD方法,基于SiH4C3H8H2生长系统在n型4HSiC偏4°衬底上进行同质外延生长。通过Nomarski光学显微镜、激光共聚焦显微镜和拉曼散射光谱(Raman),对外延层中的新形貌三角形缺陷——顶端有倒金字塔结构的三角形缺陷(IPRTD)的表面形貌、结构进行了表征,并根据表征结果提出了该新形貌三角形缺陷的产生机理。研究结果表明,IPRTD由3CSiC晶型构成;在外延生长中,位于IPRTD生长方向上游的位错缺陷所引起的表面吸附原子的2D成核生长是导致3CSiC晶型出现的主要原因。同时,外延生长过程中,生长速率和氢气刻蚀作用在[112-0]和[11-00]/[1-100]方向上的差异是导致IPRTD顶端具有倒金字塔结构的主要原因。
同质外延生长 三角形缺陷 形成机理 4HSiC 4HSiC homoepitaxial growth triangular defect formation mechanism 
人工晶体学报
2020, 49(11): 2206
作者单位
摘要
河南科技学院 机电学院, 河南 新乡 453003
由于光学玻璃高硬度、高脆性和低断裂韧性的力学性能, 边缘损伤已成为光学玻璃加工的常见缺陷形式, 严重制约了加工质量的提高。基于BK7光学玻璃的钻削试验, 分析了孔入口和出口边缘损伤的基本特征; 利用脆硬材料的压缩断裂理论, 探讨了孔口损伤的形成机理; 研究了钻削参数对孔口损伤的影响规律。在此基础上, 初步探索了旋转超声钻削(Rotary Ultrasonic Drilling, RUD)和旋转超声啄式钻削(RUPD)工艺对孔口损伤的抑制效果。结果表明: “局部崩边”是孔入口损伤的主要形式, “整体剥落”和“不连续崩碎”相互叠加是孔出口损伤的表现形式; 金刚石磨棒端面磨粒的刻划切入所导致的亚表层侧向裂纹扩展是造成入口损伤的重要原因, 而中位裂纹扩展和轴向压溃是出口损伤的主要成因。RUD能够有效抑制孔口损伤, 其最大入口崩边尺寸和最大出口剥落尺寸分别为普通钻削的15%~50%和45%~65%。RUPD能够促进磨屑和脱落磨粒的排出, 因此可以获得更小的出口损伤。
光学玻璃 钻削 孔口损伤 形成机理 抑制工艺 optical glass drilling hole edge damage formation mechanism suppression method 
光学 精密工程
2020, 28(7): 1528

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