作者单位
摘要
1 南京京东方显示技术有限公司,南京20033
2 山东大学 化学与化工学院,济南50100
针对A机种生产过程中发生的一种条纹Mura问题,通过不良品的解析和数据统计分析,发现Mura异常区的黑色矩阵层(BM)图案边缘有内切(Undercut)问题,是因为制造过程中显影机导轮与玻璃接触部分发生静电累积,静电干扰使BM光阻与玻璃之间的接触角变小,造成显影后背面曝光工艺中BM未固化层发生热融溢流(Melt Flow)现象,固化工艺后形成BM边缘内切。研究发现,通过优化背面曝光工艺参数和关闭曝光上灯可以有效改善条纹Mura的程度;且将显影机导轮“平行式”排列改造成“之字式”排列,可以进一步改善条纹Mura现象。改善后条纹Mura的发生率由0.8%降至0,改善效果显著。
条纹缺陷 内切 背面曝光 静电积累 “之字式”排列 stripe Mura undercut backside exposure electrostatic accumulation Zigzag arrangement 
光电子技术
2022, 42(1): 47
作者单位
摘要
武汉华星光电技术有限公司, 武汉 430078
针对内嵌式触控显示屏中横条纹缺陷进行了原因分析, 提出了相应的解决方案, 如调节扫描电压、改变驱动模式、增强驱动能力等。实验结果表明, 水平同步扫描模式下, 内嵌式触控屏报点率达到120 Hz, 横条纹缺陷问题得到了改善, 对提高显示质量有重要意义。
条纹缺陷 内嵌式触控 水平同步扫描模式 报点率 显示质量 H-line defect in-cell touch long H sync mode report rate display quality 
光电子技术
2016, 36(4): 253
作者单位
摘要
成都精密光学工程研究中心, 成都 610041
分析了采用旋转涂膜法制备溶胶-凝胶SiO2减反膜过程中条纹缺陷产生的机理, 利用含氟醇类试剂对减反膜溶胶进行改性, 使溶胶链段柔顺性及流动性得到改善。在光学显微镜下对改性前后的膜层进行了对比和分析, 对膜层的表面形貌、表面粗糙度以及透射比等特性进行了表征。结果表明:溶胶改性之后的膜层未出现条纹缺陷, 表面粗糙度均方根值从4.55 nm下降到小于1.00 nm, 膜层表面质量有了较大提高;改性前后膜层的增透性能相当,在熔石英基片上制备的膜层峰值透射比为99.60%~99.89%, 膜层激光损伤阈值为21.0~25.3 J/cm2。
旋转涂膜 条纹缺陷 溶胶-凝胶 减反膜 含氟醇 spin coating striation defects sol-gel antireflective coating fluoroalkanol 
强激光与粒子束
2010, 22(12): 2865

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!