作者单位
摘要
合肥鑫晟光电科技有限公司, 安徽 合肥 230001
基于相同点位分别测试了TFT白点色度均匀性(WCU)和各层氮化硅(SiNx)膜厚, 并分析了二者的关联性, 发现TFT WCU与栅极绝缘层(GI)和第二绝缘层(PVX2)两层的相关性较大, 而与厚度最薄, 折射率最大的第一绝缘层(PVX1)最不相关; 提出了降低GI层剩余厚度避免低速沉积GI(GL)的残留和降低PVX2膜层厚度以提升面内均一性的改善方案, 最终使得产品的TFT WCU均值降低约0.000 7; 最大值由改善前的0.007 0降至改善后的0.005 2, 满足了最大值≤0.005 5的目标值, 改善效果明显。
薄膜晶体管 氮化硅薄膜 白点色度均匀性 折射率 TFT SiNx film white color uniformity refractive index 
液晶与显示
2019, 34(12): 1166

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