1 中国工程物理研究院 激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900
2 西华师范大学 物理与电子信息学院, 四川 南充 637002
采用射频磁控溅射技术，在不同溅射功率条件下制备了碳化硼薄膜，并用X射线光电子能谱(XPS)和傅里叶变换红外吸收光谱(FTIR)对碳化硼薄膜的组分进行了定量表征，分析了功率变化对碳化硼组分的影响。利用纳米压入仪通过连续刚度法(CSM)对碳化硼薄膜的硬度和模量等力学性能进行了分析。研究表明：随着功率的增大，硼与碳更易结合形成B—C键，在功率增大到250 W时，B—C键明显增多；在250 W时，硼与碳的原子分数比出现了最大值5.66；碳化硼薄膜的硬度与模量都随功率的增大呈现出先增大后减小的趋势，且在250 W时均出现了最大值，分别为28.22 GPa和314.62 GPa。
碳化硼薄膜 X射线光电子能谱 力学性能 磁控溅射 溅射功率 boron carbide thin films Xray photoelectron spectroscopy mechanical properties magnetron sputtering sputtering power
武汉军械士官学校 光电技术研究所, 武汉 430075
采用KrF准分子激光器, 在Si, Ge光学衬底上制备了碳化硼薄膜, 研究了不同激光能量、靶材与衬底距离、衬底负偏压等条件对薄膜性能的影响。利用傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)和纳米压痕仪, 并依据光学薄膜测试的通用标准, 对样品的光学透过率、纳米硬度及膜层与衬底的结合性能进行了测试。结果表明: Si, Ge衬底单面镀碳化硼薄膜后最高透过率提高10%以上, 纳米硬度提高到未镀膜的3倍以上, 且膜层与衬底有较好的结合性能, 表明制备的碳化硼薄膜可对光学材料起到较好的增透保护作用。
激光沉积 碳化硼薄膜 透过率 硬度 增透膜 laser deposition boron carbide film transmission hardness anti-reflective film
