晕苯是一种用于真空紫外光致发光重要的下转换材料。 本文研究旋涂法和热蒸发法制备紫外CCD用晕苯薄膜的工艺方法, 并对所制备的两种薄膜的性能进行了表征和对比。 测试结果表明: 旋涂方式成膜工艺简单, 材料利用率较高, 并且保持了荧光材料本身固有的晶体结构, 但是膜面粗糙度较大; 热蒸发方式成膜后紫外吸收较强, 荧光发射强度相对较高, 成膜后膜面粗糙度较小; 热蒸发工艺在加热过程中改变了晕苯的晶体结构并形成了新的结晶态; 相比于旋涂法, 热蒸发的整个制备工艺相对复杂, 并且生产成本较高。 此外, 该对比性研究工作为实现不同要求（如荧光发射强度、 表面粗糙度、 生产成本等）的荧光下转换薄膜的制备提供了理论指导。

Lumogen薄膜用于固态硅基探测器件CCD紫外增强具有显著的成本和工艺优势。 研究旋涂法制备Lumogen薄膜的CCD紫外增强技术, 通过对薄膜的光谱分析得到优化的制备工艺。 制备的薄膜在可见光波段透过率较高, 对紫外波段的光具有较强的吸收, 其发射峰位于525 nm, 并且激发谱较宽, 涵盖200～400 nm。 实验结果表明使用旋涂法制备的紫外增强薄膜, 能将紫外光转化为可见光, 并且在增强紫外响应的同时, 不削弱可见波段的响应, 是一种有效增强固态检测器紫外响应的紫外增强薄膜。