以沉积在Si［100］基底的Mo/Si多层膜为例，通过透射电镜（TEM）测量了多层膜在不同倾转角度下的界面结构，并提取了多层膜的周期厚度以及单周期中Mo层和Si层的厚度。结果表明：样品沿α方向倾转时，Mo层和Si层的测量厚度几乎没有变化，但界面粗糙度增大，这是由于旋转时薄膜的厚度方向始终与电子束垂直，而电子束穿过的TEM样品厚度Z增大；样品沿β方向倾转时，由于倾转时样品截面与电子束不垂直，造成伪影严重，无法区分Mo层和Si层，多层膜的测量总厚度随倾转角的增大先增大后减小。此外，提出了样品沿β方向倾转后测量薄膜厚度的计算公式。对于较薄的薄膜，随着倾转角β的增大，测量厚度增大；对于较厚的薄膜，随着倾转角β的增大，测量厚度先增大后减小。薄膜厚度t₀越小，沿β方向倾转后测量厚度的相对误差越大。当TEM样品厚度Z为10 nm时，沿β方向倾转后测量厚度的相对误差较小。

在保持混凝土胶材总量、水胶比不变情况下，设计了不同砂率、不同种类砂搭配的混凝土配合比，通过测试混凝土扩展度、扩展时间(T500)，结合浆膜层厚度(PFT)、水膜层厚度(WFT)计算，详细分析了PFT、WFT与新拌混凝土流动性的关系。结果表明，混凝土流动性受PFT和WFT的影响较大，且不同种类砂搭配制备混凝土的流动性、PFT、WFT均存在较大差异。混凝土扩展度随PFT、WFT的增加而增加，且关联度较高，T500随PFT、WFT的增加而减少，但相关性较差。PFT、WFT的变化主要源于机制砂石粉含量、细度模数以及骨料空隙率的变化，当石粉含量过高时，虽然会引入更多浆体使PFT增加，但同时也会引起体积水胶比减小，比表面积增大，导致WFT变小，混凝土流动性反而变差。

建立超高性能混凝土(UHPC)浆体的工作性和流变性之间的关系可从理论上研究其工作性变化规律。本文以颗粒膜层厚度为UHPC浆体的工作性的综合衡量指标, 设计了正交试验, 研究水胶比、超细粉煤灰替代率和硅灰掺量对UHPC浆体的工作性与流变性的影响。根据流动度和流变性测试结果, 分析了水胶比和超细粉煤灰替代率的共同作用对UHPC浆体的工作性与流变性的影响, 探究了UHPC的净浆与砂浆的工作性关系, 基于浆膜层厚度给出了UHPC砂浆的工作性与流变性的关系式。研究结果表明: 水胶比是UHPC浆体的工作性与流变性的最主要影响因素, 水胶比、超细粉煤灰替代率和硅灰掺量提高均造成UHPC浆体的颗粒表面膜层厚度增大; 水胶比和超细粉煤灰替代率的共同作用下, UHPC浆体的流动度和黏度系数具有相关性。

研究了Oxide TFT的无机非金属层光学特性对画质的影响，通过光学模拟和工艺变更实验验证了TFT膜层间的不同搭配显示效果以及不同视角下TFT色坐标的分布情况。实验证明了在TFT架构不变的情况下，白画面色偏主要受SiN_x和SiO₂膜层厚度影响，这是由于在某一膜厚下，RGB三色光的波长不同，可能会分别产生相干叠加或者相干减小，使得RGB的亮度比发生变化，从而改变白点的色度。此实验论证为业内研究解决色偏不良提供相关依据，也为企业提供了验证经验。

重力Mura不良一直是显示业内一种比较难以解决的顽疾。随着显示屏透过率及对比度的要求不断提高, 产品设计安全范围变得更小, 因此重力Mura不良的解决更是尤为关键。本文对显示屏内部特性因素进行了分析, 并通过工艺变更样品制作, 进行液晶量安全范围(LC Margin)实验测试。证明了引起LC Margin变化的主要因素为柱状隔垫物(PS)高度, 同时阵列基板上的源极信号体(S/D)膜层厚度和栅极(Gate)膜层厚度同样对LC Margin产生一定影响; CF基板上BM & OC &Blue 膜层厚度、玻璃厚度特性参数也会导致LC Margin发生变化; 在成盒(Cell)制作工艺中, PI 膜层厚度及液晶型号对LC Margin的产生影响虽然不大, 但也不容忽视; 通过这样的实验论证, 为业内研究提供相关依据, 也为企业提供验证经验, 保证产品的品质。

采用溶胶凝胶法与高温水热法相结合的复合方法制备了以泡沫镍为基底的不同膜层厚度的TiO2纳米薄膜光电极, 并用场发射扫描电子显微镜（SEM）与电化学工作站对样品进行了表面形貌表征与光电性能测试。结果表明, 膜层厚度为10层的TiO2纳米薄膜光电极的材料附着度最高, 且具有最强的光电响应。研究结果为进一步优化泡沫镍负载TiO2纳米薄膜光电极的制备提供了有益参考。

提出用X射线荧光光谱法测定浮法玻璃上镀层厚度及其各层成分含量的分析研究, 对样品各层元素的测定条件、 仪器工作条件等进行了设置调整, 以期对每个元素的测定效果达到最佳。 建立了膜层试样的背景基本参数(BG-FP)法, 测定结果与实际制备条件吻合, 适用于生产应用。

为了对沉积在大曲率球面零件表面的光学膜厚分布进行理论分析计算, 首先确定了工艺配置, 然后通过数学建模确定出计算函数式, 最后通过数值积分分别对蒸发源为点源(n=0)和蒸发源为面源(n=1, 2)进行了计算。计算结果与实验结果比较后表明: 在本文确定的工艺条件下, n=2时计算结果与实验结果比较吻合。证明采用本文设计的建模方法结合恰当的蒸发源发射特性, 通过数值计算, 完全可以对大曲率球面零件的膜厚分布进行计算。

叙述了多碱光电阴极光谱反射的特点，测量了超二代微光像增强器多碱光电阴极的光谱反射曲线，分析了光谱响应曲线产生干涉加强峰和干涉减弱峰的原因，比较了不同膜层厚度多碱阴极光谱反射曲线的区别。根据能量守恒定律，利用实测的多碱光电阴极光谱反射率和光谱透过率，计算出多碱光电阴极的光谱吸收曲线，通过研究不同厚度多碱阴极的光谱吸收，发现多碱光电阴极膜层厚度加厚并不会提高其对所有波段光吸收率的特点。厚度增加只会增加短波和长波的光吸收率，但中波的光吸收率不会增加反而下降，这是由于受到光谱反射的影响。阴极膜层的厚度既影响光谱反射和光谱透过，又会影响光谱吸收，因此也影响多碱阴极的光谱响应，所以多碱光电阴极的膜层厚度是影响多碱光电阴极灵敏度的一个关键参数。实践证明，转移式技术制作的多碱光电阴极膜层厚度也存在一个最佳值，超过这一最佳厚度，阴极的灵敏度不增反降，这是因为红外光谱响应增加不多，但中波光谱响应下降很多。所以对转移式多碱光电阴极而言，实践证明当膜层厚度达到最佳厚度时，膜层呈现淡红色，在制作过程中要控制好阴极膜层的厚度，这样才可能获得较高的阴极灵敏度。

在宽光谱膜厚监控系统中，利用光栅光谱仪分光，线阵CCD接收，完成光谱的一次性快速扫描来控制膜层厚度，达到实时监控的要求。而系统光谱扫描的准确性，直接影响膜厚实时监控的有效性。为了得到准确的光谱信息，首先确定CCD像素和光波波长的对应关系，基于特征谱线的离散关系，采用最小二乘拟合法建立了光谱标定函数，经实验，标定波长均方根误差为0.037 nm; 对于CCD实时输出的光谱监控信号，利用小波阈值优化算法抑制信号中的随机噪声，保留了光谱信号的细节成分，峰值误差的最大值为1.0%，峰位误差的最大值为0.3%，满足了监控中光谱分辨率的要求。