1 安徽师范大学 物理与电子信息学院, 安徽 芜湖 241002
2 中航华东光电有限公司, 安徽 芜湖 241002
3 特种显示技术国家工程实验室, 安徽 芜湖 241002
4 安徽省现代显示技术重点实验室, 安徽 芜湖 241002
为了改善机载LCD在低温加热过程中出现的不均匀、四角发蓝现象, 提出了一种基于ITO图案化的加热器设计方法。首先通过Pro/E软件设计ITO图形, 接着利用ANSYS Workbench对屏组件进行有限元热仿真, 得到了机载LCD的低温加热功耗以及稳态温度分布图, 最后根据仿真数据制作LCD, 并进行样品试验。结果表明,对于15.24 cm的LCD, 在相同的功率下, 图案化的加热器加热更加均匀, 且四角发蓝现象得到明显的改善。
液晶显示器 氧化铟锡膜图案化 有限元热仿真 稳态温度分布图 功耗 LCD ITO patterning Finite element thermal simulation steady temperature profile power consumption
上海理工大学 光电信息与计算机工程学院, 上海 200093
随着糖尿病的发病率逐年增高,为避免传统有创血糖监测血糖的痛苦,无创血糖监测已经越来越引起人们的重视。无创血糖检测技术就是在不对人体造成伤害的条件下检测人体血糖的方法。该方法可以避免传统试纸测试带来的痛苦,降低检测成本,提高病人测量的依从性,既能增加血糖检测的频率又能获得血糖的动态变化趋势,从而降低了患者糖尿病并发症的发生,同时可以避免针刺可能带来的感染,对于糖尿病人的自我监测具有非常重要的意义。详细介绍了当前各种无创血糖检测技术的原理,分析了各种技术的优缺点,并提供了国内外无创血糖仪的最新成果,还介绍了本人所在课题组所研发的基于代谢守恒原理的无创血糖监测产品。
无创检测 糖尿病 血糖 noninvasive detection diabetes blood sugar
上海理工大学 教育部光学仪器与系统工程研究中心,上海200093
根据交流发光二极管(AC-LED)的工作特征,提出了一种简单而精准的AC-LED结温测量方法:开启电压法。通过理论分析和实验发现,AC-LED的开启电压会随着结温的上升而下降,且两者之间有良好的线性关系,从而确认将开启电压作为温度变化参数来间接测量AC-LED的结温。实验表明,开启电压法测量结温的重复性最大误差为2.0 ℃,热阻重复性最大误差为0.6 ℃/W。经过对比分析,开启电压法得到热阻值比参考脉冲法更接近真实值。
结温 测量方法 开启电压法 AC-LED AC-LED junction temperature measurement methods cut-in voltage method
上海理工大学光电信息与计算机工程学院, 上海市现代光学系统重点实验室, 上海200093
传统的CCD和CMOS成像传感器对紫外区域响应比较弱, 这是因为多晶硅栅对紫外光有强的吸收能力, 从而阻碍了紫外光进入CCD沟道。 为了提高探测器对紫外辐射的敏感性, 可行的一种办法是在器件上镀一层可以将紫外光转化为可见光的变频膜。 采用真空蒸发法制备了有机Lumogen薄膜, 并用发光官能团分析、椭圆偏振技术研究了Lumogen薄膜的发光原理与光学常数。 分析与实验结果表明: Lumogen可连续光致发光原因是其分子具有四类双键结构; 椭圆偏振法测得该Lumogen薄膜折射率在1.3左右, 说明该膜具有增透效果。 同时, 通过测量Lumogen薄膜的透射光谱、吸收光谱、光致发光发射谱和激发谱, 表征了Lumogen薄膜的光谱性质, 发现Lumogen薄膜在可见波段(>470 nm)有较好的透过性, 用紫外光激发会产生较强的黄绿光(中心波长位于523 nm), 且激发光谱宽(240～490 nm)。 结论表明Lumogen薄膜的发射光谱能够与CCD等传统硅基成像器件的响应光谱匹配, 是一种符合实际要求的紫外敏感薄膜。
Lumogen薄膜 紫外敏感 真空蒸发法 光谱表征 Lumogen coatings Ultraviolet responsive Vacuum evaporation Spectral characterization 光谱学与光谱分析
2010, 30(5): 1171
上海理工大学 上海市现代光学系统重点实验室,上海 200093
调谐反射窄带滤光片在光通信、显示、光开关和防伪等领域有重要应用。导模共振滤光片(GMRF)对结构参数非常敏感,因此可通过结构参数的变化来实现反射峰值的调谐。为了研究利用方位角的变化来实现导模共振滤光片调谐的新方法,分析了方位角对导模共振滤光片衍射区域电场分布的影响,通过严格的耦合波理论计算,设计了方位角调谐的导模共振滤光片。对于60°入射的TM偏振光,随着方位角的增加,导模共振滤光片的共振峰值向长波方向移动。
光栅 导模共振 调谐 方位角 滤光片
上海理工大学 上海市现代光学系统重点实验室,上海 200093
为了研究亚波长光栅表面上薄膜的生长特性,以及镀膜对亚波长光栅物理特性的影响,对亚波长正弦槽形光栅表面上镀的Au膜进行了实验研究和理论分析。实验发现,当光栅槽深为80 nm,Au膜为100 nm时,薄膜的生长是仿形生长,光栅的正弦槽形特征和周期都基本没有发生变化,但镀膜后,出现光栅的正弦占空比增加、槽的深度减小以及槽深的均匀性变差等现象。对引起这种现象的原因进行了分析,提出了由于光栅微结构而给薄膜生长带来的阴影效应现象,并分析了正弦占空比增加对导模共振滤光片光谱特性的影响。
薄膜 亚波长光栅 薄膜生长 占空比 正弦槽形 导模共振
1 上海理工大学 光学与电子工程学院，上海 200093
2 中国科学院 上海光学精密机械研究所，上海 201800
综述了离子束辅助沉积技术在高功率激光薄膜制备中的应用研究进展。指出该技术在制备高激光损伤阈值的薄膜中存在的问题，即出现过高的堆积密度，会给薄膜带来杂质缺陷、化学计量比缺陷、损伤缺陷、晶界缺陷，制备薄膜的残余应力存在着压应力增加的趋势，会改变薄膜的晶体结构等。并指出了该研究领域的研究方向。
薄膜 离子束辅助沉积 高功率激光薄膜 激光损伤阈值 thin films ion beam assisted deposition high power laser films laser induced damage threshold
1 上海理工大学,光学与电子工程学院,上海,200093
2 中国科学院,上海光学精密机械研究所,光学薄膜中心,上海,201800
在研究阶段离子束辅助制备方式对薄膜性质影响的基础上,采用电子枪蒸发及离子束辅助沉积制备了氧化铪及氧化硅单层膜,采用阶段离子束辅助沉积及全程非离子束辅助沉积制备了基频减反膜.测量了所有样品的弱吸收、残余应力和激光损伤阈值.结果发现,相对电子枪热蒸发制备的样品,离子束辅助沉积的单层膜具有大的弱吸收、低的激光损伤阈值,且张应力减小,压应力增加1;阶段离子束辅助沉积制备的减反膜剩余应力变小,弱吸收稍微增加,激光损伤阈值从10.91 J/cm2增加到18 J/cm2.分析表明,离子束辅助沉积在引入提高样品激光损伤阈值有利因素的同时,也引入了不利因素,阶段离子束辅助沉积在引入有利因素的同时,有效减少了不利因素的引入,从而提高了样品的激光损伤阈值.
离子束辅助沉积 激光损伤阈值 减反膜 弱吸收 应力 光学 精密工程
2007, 15(10): 1463
1 上海理工大学光学与电子工程学院,200093
2 上海市嘉定区疁城实验学校,201800
电子枪蒸发制备了氧化铪薄膜,对氧离子束辅助和未辅助两种情况下的样品进行了折射率、吸收、激光损伤阈值等属性的测试,结果表明,氧离子束辅助沉积的样品与未辅助沉积的样品相比具有高的折射率和高的吸收,以及稍低的激光损伤阈值.经过分析发现,薄膜的激光损伤阈值是影响薄膜抗激光特性的不利因素和有利因素竞争的结果,离子束辅助沉积技术在引入结构致密等有利因素的同时,也引入了吸收增加等不利因素.
离子束辅助沉积 氧化铪 激光损伤阈值 微弱吸收
中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800
测量了End-Hall离子源在不同条件下的离子束流密度,在不同离子束流密度下进行了Ar离子辅助沉积ZrO2薄膜的实验,研究了离子束流密度对薄膜折射率、晶相的影响.根据动量传递模型分析了离子束流密度对薄膜折射率的作用;根据热尖峰理论证明了一定条件下离子束流密度不会影响薄膜晶体结构.
离子辅助 离子束流密度 热尖峰 晶相 Ion beam assisted Ion current density Thermal-spike Crystal phase
