针对日冕仪中对杂散光的抑制要求，分析了日冕仪系统中的三种杂散光，包括日冕仪物镜二次反射产生的鬼像点、日冕仪物镜散射点、以及日冕仪孔径光阑衍射光。利用光学建模软件对日冕仪系统进行仿真和分析，发现这三种杂散光的成像位置十分接近且不易区分，并会对系统的检测过程和检测结果产生干扰。根据仿真结果，给出了这三种杂散光的判定与抑制方法，并利用一台视场为±1.08 R_⊙~±2.5 R_⊙（R_⊙表示太阳半径），工作波段为530.3~637.4 nm，通光口径为220 mm，系统总长为4 321 mm的内掩式日冕仪进行了理论验证和实验对比，验证了判定方法的可行性。同时设计了掩体和鬼像遮拦结构对杂散光进行抑制，增加了日冕仪系统杂散光抑制的选择方案，提升了日冕仪杂散光检测的准确率。

为了更好地实现对日冕及日冕物质抛射的观测，并使观测角度更加精准，设计了太阳对准系统，利用对准系统对太阳成像，根据探测器上太阳像的圆心坐标判断是否对准并调整日冕仪观测角度。将太阳对准系统应用在三圆盘外掩式日冕仪上进行实验，该日冕仪视场为±20°，工作波段为630~730 nm，F数为4，焦距为38 mm，分辨率为1.2'/pixel。对比了单圆盘外掩体与三圆盘外掩体对外掩体边缘衍射光的抑制能力，并提出一种黑洞检测法对日冕仪总杂散光进行检测。实验结果表明，日冕仪指向精度达到0.11'，三圆盘外掩体边缘衍射杂散光低于单圆盘外掩体边缘衍射光，且日冕仪总杂散光抑制水平达到10^-13量级。杂散光检测方法结果良好，准确性高，对准系统实现了预期功能。

为探究脉冲电场对防治水生生物附着效果的影响因素，确定有效防治附着生物所需的最低电场条件，搭建了脉冲电场试验平台，通过人工脉冲形成线产生近似方波的脉冲，统计不同条件下大型溞死亡率和形态结构发生的变化，通过函数拟合得到了脉冲电场诱导死亡率与电场强度、总等效处理时间、脉冲注入能量密度之间的函数关系，并以某干渠工程为例介绍了脉冲电场防治大型溞的参数选取原则和平台搭建方法。结果表明，脉冲电场对大型溞的处理效果与电场强度、总等效处理时间和脉冲注入能量密度都呈正相关关系。电场强度介于0.5～1.5 kV/cm之间时，电场强度每增加0.5 kV/cm，诱导死亡率增加35%左右。电场强度高于2.0 kV/cm、总等效处理时间大于900 μs或脉冲注入能量密度高于80 J/L时，脉冲电场都可以产生80%以上的诱导死亡率。