光学学报, 2017, 37 (10): 1012006, 网络出版: 2018-09-07
用于扫描干涉场曝光的超精密微动台设计与控制 下载: 821次
Design and Control of Ultra-Precision Fine Positioning Stage for Scanning Beam Interference Lithography
基本信息
DOI: | 10.3788/AOS201737.1012006 |
中图分类号: | O436.1 |
栏目: | 仪器,测量与计量 |
项目基金: | 国家科技重大专项“磁悬浮工件台关键技术研究”(2012ZX02702-006)、 |
收稿日期: | 2017-04-05 |
修改稿日期: | 2017-06-07 |
网络出版日期: | 2018-09-07 |
通讯作者: | 杨开明 (yangkm@tsinghua.edu.cn) |
备注: | -- |
鲁森, 杨开明, 朱煜, 王磊杰, 张鸣, 杨进. 用于扫描干涉场曝光的超精密微动台设计与控制[J]. 光学学报, 2017, 37(10): 1012006. Sen Lu, Kaiming Yang, Yu Zhu, Leijie Wang, Ming Zhang, Jin Yang. Design and Control of Ultra-Precision Fine Positioning Stage for Scanning Beam Interference Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2017, 37(10): 1012006.