用于扫描干涉场曝光的超精密微动台设计与控制下载： 821次 | 光学学报 -- 中国光学期刊网

光学学报, 2017, 37 (10): 1012006, 网络出版: 2018-09-07

用于扫描干涉场曝光的超精密微动台设计与控制下载： 821次

Design and Control of Ultra-Precision Fine Positioning Stage for Scanning Beam Interference Lithography

鲁森 ^1,2杨开明 ^1,2,*朱煜 ^1,2王磊杰 ^1,2张鸣 ^1,2杨进 ³

作者单位

¹ 清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室, 北京 100084

² 清华大学精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室, 北京 100084

³ 东风商用车技术中心基础技术研究室, 湖北武汉 430056

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鲁森, 杨开明, 朱煜, 王磊杰, 张鸣, 杨进. 用于扫描干涉场曝光的超精密微动台设计与控制[J]. 光学学报, 2017, 37(10): 1012006. Sen Lu, Kaiming Yang, Yu Zhu, Leijie Wang, Ming Zhang, Jin Yang. Design and Control of Ultra-Precision Fine Positioning Stage for Scanning Beam Interference Lithography[J]. Acta Optica Sinica, 2017, 37(10): 1012006.

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