液晶与显示, 2019, 34 (6): 564, 网络出版: 2019-08-07
IGZO-TFT钝化层三元复合结构过孔刻蚀
Ternary composites of passivation layer for hole plasma etching of IGZO-TFT
基本信息
DOI: | 10.3788/yjyxs20193406.0564 |
中图分类号: | TN321+.5 |
栏目: | 材料与器件 |
项目基金: | -- |
收稿日期: | 2018-12-06 |
修改稿日期: | 2019-04-24 |
网络出版日期: | 2019-08-07 |
通讯作者: | 田茂坤 (tianmaokun@boe.com.cn) |
备注: | -- |
田茂坤, 董晓楠, 黄中浩, 王骏, 王思江, 赵永亮, 闵泰烨, 袁剑峰, 孙耒来, 谌伟, 王恺, 吴旭. IGZO-TFT钝化层三元复合结构过孔刻蚀[J]. 液晶与显示, 2019, 34(6): 564. TIAN Mao-kun, DONG Xiao-nan, HUANG Zhong-hao, WANG Jun, WANG Si-jiang, ZHAO Yong-liang, MIN Tai-ye, YUAN Jian-feng, SUN Lei-lai, CHEN Wei, WANG Kai, WU Xu. Ternary composites of passivation layer for hole plasma etching of IGZO-TFT[J]. Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays, 2019, 34(6): 564.